Патенты автора Рафалович Александр Давидович (RU)

Изобретение относится к формированию тонких углеродных пленок и может быть использовано для получения антиэмиссионного покрытия на сетках мощных генераторных ламп. Способ получения пленочного покрытия с низкой вторичной электронной эмиссией на подложке включает осаждение наноуглеродного пленочного покрытия в микроволновой плазме и модификацию поверхности пленочного покрытия с использованием микроволновой плазмохимической обработки во фторуглеродной газовой среде при давлении 0,1-0,2 Па и ускоряющем потенциале на подложкодержателе 200-300 В. При этом наноуглеродное пленочное покрытие осаждают толщиной 200-500 нм в высокоионизованной микроволновой плазме паров этанола при давлении (1-2)⋅10-2 Па и температуре подложки 200-300°С, а модификацию поверхности наноуглеродного пленочного покрытия микроволновой плазмохимической обработкой во фторуглеродной газовой среде осуществляют при давлении 0,1-0,2 Па в течение 5-8 мин. Изобретение обеспечивает уменьшение величины обратного потока вторичных электронов из коллектора в пространство взаимодействия прибора, а также повышение КПД коллектора. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.

Изобретение относится к области электронных приборов СВЧ, в частности к лампам бегущей волны (ЛБВ)

 


Наверх