Патенты автора Точицкий Э.И.
Изобретение относится к технологии осаждения пленок с использованием лазерного излучения, а именно к способам получения пленок высокотемпературных сверхпроводников (ВТСП), и может использоваться в технологии больших и сверхбольших интегральных схем (БИС и СБИС), СКВИД
СПОСОБ ОСАЖДЕНИЯ ПЛЕНОК В ВАКУУМЕ // 1584433
Изобретение относится к вакуумной технологии и может быть использовано для осаждения пленок при изготовлении приборов микроэлектроники, оптических покрытий, элементов интегральной оптики
Изобретение относится к вакуумной технологии нанесения пленок и покрытий металлов и сплавов композиционных и тугоплавких соединений на их основе на полимерные материалы и может использоваться в химической и электронной отраслях промышленности
ВАКУУМНОЕ ЭЛЕКТРОРАЗРЯДНОЕ УСТРОЙСТВО // 1551233
Изобретение относится к плазменной технике и представляет собой средство для генерирования в вакууме потоков ускоренной электроэрозионной плазмы и может быть использовано, например, в технике вакуумного нанесения тонких пленок и покрытий
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ // 1478660
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЭЛЕКТРОПИТАНИЯ ЭЛЕКТРОРАЗРЯДНОЙ ТЕРМИЧЕСКОЙ УСТАНОВКИ ДЛЯ ОБРАБОТКИ ДЕТАЛЕЙ // 1367820
Изобретение относится к электротехнике
ИСПАРИТЕЛЬ // 1354761
Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано в вакуумных сильноточных электроразрядных устройствах технологического назначения, например для нанесения покрытий
Изобретение относится к электротехнике, предназначено для возбуждения разряда в импульсном генераторе электроэрозионной плазмы и может быть использовано в вакуумных сильноточных электроразрядных устройствах технологического назначения, например, для нанесения покрытий
ВАКУУМНОЕ ЭЛЕКТРОРАЗРЯДНОЕ УСТРОЙСТВО // 1116967
Изобретение относится к плазменной технике, представляет собой средство для получения в вакууме потока высокочистой электроэрозионной плазмы и является усовершенствованием основного изобретения по авт
ЭРОЗИОННЫЙ ПЛАЗМЕННЫЙ УСКОРИТЕЛЬ // 1088639
Изобретение относится к микроэлектронике, в частности к изготовлению фотошаблонов, используемых в фотолитографических процессах для производства тонкопленочных интегральных микросхем методами планарной технологии
Изобретение относится к области плазменной техники и вакуумной технологии нанесения покрытий и может быть использовано в микроэлектронике для нанесения тонких пленок, в машиностроении для нанесения износостойких, жаропрочных, коррозионностойких и других защитных покрытий простого и сложного составов
СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ПОТОКА ПЛАЗМЫ // 1061686
Изобретение относится к плазменной технологии и может быть использовано для обработки поверхности изделий, с целью придания ей специальных свойств, например нанесения покрытий, плазменной очистки, полировки и насыщения поверхностных слоев ионами различных материалов
ВАКУУМНЫЙ ЗАПОМИНАЮЩИЙ АКТИВНЫЙ ЭЛЕМЕНТ // 1047326
ВАКУУМНОЕ ЭЛЕКТРОРАЗРЯДНОЕ УСТРОЙСТВО // 950167
Изобретение относится к плазменной технике, представляет собой средство для получения в вакууме потока электроэрозионной плазмы и может быть использовано для различных технологических целей, например для нанесения тонких пленок и покрытий
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ // 908113
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ // 880178
Изобретение относится к вакуумной технике и может найти применение в нанесении высококачественных покрытий простого и сложного составов
