Патенты автора КОБРИН Борис (US)
Изобретение относится к области литографии и касается способов изготовления снабженной нанорисунком цилиндрической фотомаски. Способ включает нанесение слоя эластомерного материала на прозрачный цилиндр с последующим формированием на эластомерном материале элементов рисунка размером от 1 нм до 100 мкм. Формирование элементов рисунка осуществляется перенесением элементов рисунка с предварительно изготовленного шаблона, либо с помощью процесса непосредственного формирования рисунка на эластомерном материале. Варианты способа предусматривают формирование рисунка с элементами размером от 1 нм до 100 мкм на эластомерном материале с последующим ламинированием снабженного нанорисунком эластомерного материала на поверхность цилиндра. Технический результат заключается в обеспечении возможности изготовления наноразмерных элементов методом ближнепольной литографии. 14 н. и 21 з.п. ф-лы, 20 ил.
Изобретение относится к способу и устройству, полезным при нанесении нанорисунка на подложки большой площади
