Патенты автора Симонова Татьяна Петровна (RU)

Изобретение может быть использовано при низкотемпературной пайке в жидком теплоносителе деталей мягкими припоями, в частности каркасов для корпусов микросборок СВЧ-диапазона. Камера каждой из двух ванн устройства выполнена в виде куба и размещена в кожухе с теплоизоляцией. Устройства подогрева расположены по одному на задней и передней стенке каждой камеры и два - на дне. На боковых стенках камеры ванны для предварительного подогрева деталей расположены форсунки для подачи в нее азота. В камеру ванны для пайки залит жидкий теплоноситель. Камеры размещены в корпусе установки, закрытом герметичной верхней крышкой с подсветкой. Передняя стенка корпуса выполнена прозрачной с возможностью перемещения по вертикали. К устройству конденсации прикреплена труба, подключенная через фланец к вентиляции и закрытая емкостью для сбора конденсата теплоносителя, соединенной отводом с камерой пайки. Техническим результатом изобретения является повышение качества пайки и, как следствие, надежности соединения деталей, что обеспечивает повышение выхода годных изделий. 1 з.п. ф-лы, 1ил.

Изобретение относится к химической очистке и сушке изделий. Установка содержит смежные ванны предварительного и чистового обезжиривания и промывки и камеру сушки, устройства подогрева, устройства контроля и регулирования температуры обезжиривающего раствора и его уровня и выполнена в герметичном корпусе, имеющем закрывающуюся крышку и вытяжную вентиляцию. Дно каждой ванны имеет наклон в сторону сливного отверстия, расположенного противоположно центробежно-вихревому насосу, заборный патрубок которого имеет фильтр, а в напорный патрубок установлена труба с отверстиями, причем в двух смежных ваннах обезжиривания труба расположена горизонтально и отверстия направлены вверх. В ванне промывки труба разделена на два рукава, расположенные вертикально вдоль стенок, и в ее отверстия вставлены форсунки, а под второй ванной обезжиривания установлены магнитострикционные преобразователи. Каждая ванна закрыта герметичной крышкой и рядом с ванной промывки установлена камера сушки, выполненная в виде куба с коническим дном, причем боковая сторона куба совмещена с боковой стороной корпуса установки и закрыта герметичной крышкой, а в задней стенке куба выполнено отверстие для подачи азота. Изобретение обеспечивает повышение качества очистки изделий и безопасность. 1 з.п. ф-лы, 1 ил., 1 пр.

Изобретение относится к области гальванотехники, в частности к устройствам для осаждения электролитических покрытий, в том числе композиционных и покрытий золотом изделий электронной техники. Устройство содержит ванну с электродами, перемешивающий механизм, напорную систему, заборный элемент и приспособление для размещения деталей. Перемешивающий механизм выполнен в виде вихревого насоса, вал которого снабжен лопастями, помещенного в ванну так, что его заборное отверстие размещено вблизи дна, а к напорному отверстию подключены, по крайней мере, две трубки, расположенные параллельно дну ванны, выходное отверстие каждой заглушено, а на боковой поверхности выполнены отверстия, направленные в сторону дна, и барабанчика, имеющего на боковой поверхности отверстия и ребра, параллельные его оси, закрепленного на штанге с возможностью вращения вокруг своей оси, при этом штанга установлена под наклоном к корпусу ванны с возможностью вращения, а ось барабанчика описывает телесный угол 90° в центре ванны и поступательно перемещается вверх-вниз, причем приспособление для размещения деталей выполнено в виде трех параллельных штанг, средняя катодная из которых выполнена с возможностью горизонтального перемещения и колебания, а корпус ванны выполнен нагреваемым. Техническим результатом изобретения является упрощение конструкции и повышение качества наносимых покрытий на изделия, а также повышение производительности и надежности работы устройства. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.

Изобретение относится к технологическому сверхвысоковакуумному оборудованию, применяемому в электронной промышленности для откачки электровакуумных приборов (ЭВП) различного назначения, в частности крупногабаритных клистронов с размером по высоте до 2-х метров и весом более 100 кг, а также приборов других типов. Техническим результат - повышение надежности и качества откачки ЭВП, упрощение конструкции поста и повышение его производительности. Высоковакуумный пост для откачки электровакуумных приборов содержит защитную камеру и вакуумную систему откачки приборов, включающую турбомолекулярный и безмаслянный форвакуумный насосы. Металлические охлаждаемые стенки камеры по вертикали разделены уплотнительной прокладкой на две части, одна из которых подвижна. На основании неподвижной части расположено с возможностью перемещения по трем координатам юстирующее устройство для крепления приборов. Вдоль стенок камеры по вертикали расположены нагреватели с независимыми источниками питания. Вверху камеры расположен коллектор для подачи азота. В основании установлен кран с ручным управлением потоком азота. Вакуумная система откачки подключена к прибору через прогреваемый кран. Вакуумная система откачки прибора может быть выполнена на безмасляном форвакуумном спирального типа насосе. 3 з.п. ф-лы, 1 ил.

Изобретение относится к электронной промышленности. Технический результат - снижение трудоемкости наполнения инертным газом прибора и повышение надежности и срока службы прибора. Способ откачки и наполнения прибора газом содержит откачку и прогрев прибора, напуск газа в прибор и герметизацию прибора. Вначале проводят форвакуумную откачку камеры до давления 5-10-2 мм рт.ст. и напуск осушенного азота в прибор до давления не более 2 атмосфер, затем откачку прекращают и измеряют вакуум в камере. Если степень вакуума не изменилась, то ведут безмасляную форвакуумную откачку прибора до давления 5·10-2 мм рт.ст., а затем откачку турбомолекулярным насосом до давления 5·10-6 мм рт.ст., прибор во время откачки прогревают до температуры не более 100°C. Насосы отсоединяют, выключают и проводят напуск инертного газа до давления не более 1,3 атмосферы. Камеру заполняют азотом и герметизируют прибор холодным отпаем штенгеля. 1 ил.

Изобретение относится к химическому травлению струйным методом плоских поверхностей деталей машиностроения, приборостроения и электронной техники и может быть применимо в производстве печатных плат и плоских антенных решеток

 


Наверх