Патенты автора Кривцун Владимир Михайлович (RU)
Изобретение относится к широкополосным высокояркостным источникам света на основе непрерывного оптического разряда. Технический результат – упрощение конструкции источника света, повышение его надежности и удобства эксплуатации, создание на этой основе мощных безэлектродных высокояркостных широкополосных источников света с максимально высокой пространственной и энергетической стабильностью. Источник света содержит заполненную газом камеру (1) с областью излучающей плазмы (2), поддерживаемой сфокусированным пучком (3) непрерывного лазера (4). Средством зажигания плазмы является твердотельная лазерная система (7), генерирующая два импульсных лазерных пучка (8), (9): в режиме свободной генерации и в режиме модуляции добротности. При этом твердотельная лазерная система (7) содержит только один активный элемент (10), а ее оптический резонатор (12), (13) снабжен модулятором добротности (14), перекрывающим часть (15b) апертуры внутрирезонаторного потока лазерного излучения (15). Способ зажигания плазмы характеризуется тем, что одним импульсным лазерным пучком (9) твердотельной лазерной системы (7) осуществляют оптический пробой, после которого другим импульсным лазерным пучком (8) зажигают плазму, объем и плотность которой достаточны для стационарного поддержания плазмы сфокусированным пучком (3) непрерывного лазера. 2 н. и 12 з.п. ф-лы, 2 ил.
Изобретение относится к Li-содержащему материалу мишени, предназначенному для получения излучающей плазмы в высокояркостных источниках света и для генерации излучения в области экстремального ультрафиолета (ЭУФ) на длине волны 13,5 нм. В качестве материала мишени используется эвтектический сплав Li с дополнительным элементом, позволяющим многократно увеличить плотность материала мишени по сравнению с плотностью Li при атомной доле Li от 90% до 60%. Дополнительный элемент выбран из группы, включающей в себя Au, Ag, Bi, Ва, Sr. Указанный материал мишени предпочтительно используют в ЭУФ источнике на основе лазерной плазмы с быстровращающейся мишенью (не менее 100 м/с), в котором капельная фракция загрязнений не направлена в пространственные области прохождения пучков лазерного и ЭУФ излучения. Техническим результатом является расширение круга применений компактных чистых источников излучения с высокой спектральной яркостью на 13,5 нм благодаря резкому снижению скорости капельной фракции загрязняющих частиц и возможности управлять направлением ее вылета из Li-содержащей плазмы за счет высокой скорости мишени. 4 н. и 12 з.п. ф-лы, 7 ил.
Изобретение относится к широкополосным высокояркостным источникам света на основе непрерывного оптического разряда. Технический результат - расширение в ВУФ диапазоне спектра излучения плазменных источников света с лазерной накачкой при обеспечении их высокой яркости и стабильности. Источник света с областью излучающей плазмы (2), поддерживаемой в газонаполненной камере (1) сфокусированным пучком (3) непрерывного лазера (4). Газ относится к инертным газам с чистотой не хуже 99,99%. Камера содержит металлический корпус (5) с окном (6а) для ввода пучка непрерывного лазера и, по меньшей мере, одним окном (6b) из MgF2 для вывода пучка излучения плазмы (8). Каждое окно расположено с внутренней стороны камеры на ближнем к области излучающей плазмы торце втулки (7a, 7b), расположенной в отверстии корпуса. Каждое окно спаяно с втулкой посредством стеклоцемента (13), и каждая втулка с припаянным к ней окном вварена наружным швом (14) в отверстие металлического корпуса. Втулки и корпус камеры выполнены из сплава с коэффициентом линейного теплового расширения (КЛТР), согласованным с КЛТР кристаллического фторида магния в направлении, перпендикулярном оптической оси кристалла MgF2. 20 з.п. ф-лы, 5 ил.
Изобретение относится к высокояркостным источникам излучения в области длин волн приблизительно от 0.4 до 120 нм. Технический результат - увеличение средней мощности и спектрального диапазона собираемого излучения в компактных источниках мягкого рентгеновского, ЭУФ и ВУФ излучения высокой яркости Способ включает формирование под действием центробежной силы мишени в виде слоя расплавленного металла. Мишень вращают с линейной скоростью не менее 100 м/с. При этом большая часть капельной фракции загрязнений и вектор линейной скорости мишени в зоне взаимодействия направлены по одну сторону от плоскости, проходящей через зону взаимодействия и ось вращения мишенного узла. Одновременно импульсное облучение мишени и сбор излучения из плазмы осуществляют так, что пучок коротковолнового излучения плазмы и сфокусированный пучок лазерного излучения находятся по другую сторону указанной плоскости. Источник коротковолнового излучения содержит два соосных блока эллипсоидных зеркал, расположенных последовательно по пути пучка коротковолнового излучения плазмы. На пути пучка коротковолнового излучения к оптическому коллектору размещены средства подавления загрязнений. 2 н. и 15 з.п. ф-лы, 3 ил.
Изобретение относится к области высокояркостных широкополосных источников света. Технический результат - повышение пространственной и энергетической стабильности высокояркостного источника света с лазерной накачкой. Источник света с лазерной накачкой содержит камеру, заполненную газом при высоком давлении, область излучающей плазмы, поддерживаемой в камере сфокусированным пучком непрерывного лазера; по меньшей мере один пучок излучения плазмы, выходящий из камеры, средство для зажигания плазмы. Средство для зажигания плазмы представляет собой импульсную лазерную систему, генерирующую по меньшей мере один импульсный лазерный пучок, который сфокусирован в камеру, которая состоит из трубки, дна и крышки; один торец трубки герметично соединен с дном, а другой торец трубки герметично соединен с крышкой. Крышка выполнена из металла, предназначена для заполнения камеры газом, и часть или деталь крышки выполнена в виде вогнутого сферического зеркала с центром в области излучающей плазмы. 16 з.п. ф-лы, 7 ил.
Изобретение относится к плазменным источникам света с непрерывным оптическим разрядом (НОР) и способам генерации излучения. Технический результат - повышение яркости и стабильности широкополосных источников света. Источник света содержит заполненную газом камеру, средство для зажигания плазмы и область излучающей плазмы, поддерживаемой сфокусированным пучком непрерывного лазера. Оптимальная непрерывная генерация излучения плазмы, характеризующаяся спектральной яркостью более 50 мВт/(мм2⋅нм⋅ср) и относительной нестабильностью яркости σ, менее 0,1%, достигается тем, что плотность частиц газа в камере менее 90⋅1019 см-3, а температура внутренней поверхности камеры - в диапазоне от 600 до 900 K. Предпочтительно рабочая температура камеры как можно более высока, а плотность частиц газа как можно более низка при оптимальном давлении газа в камере около 50 атм или более. Предпочтительно газ - ксенон, а длина волны непрерывного лазера 808 нм. 2 н. и 19 з.п. ф-лы, 6 ил.
Изобретение относится к импульсным высокояркостным источникам излучения в диапазоне длин волн 0.4-120 нм. Источник излучения содержит вакуумную камеру (1) с областью импульсной излучающей плазмы и средства подавления загрязнений (5), включающие в себя два или более кожухов (6), предназначенных для формирования свободных от загрязнений гомоцентрических пучков (7) коротковолнового излучения, направленных из области импульсной излучающей плазмы (2) к оптическому коллектору (3), Поверхность каждого кожуха (6) содержит две первые грани (8), ориентированные в радиальных направлениях к области импульсной излучающей плазмы и параллельные выделенному направлению, например вертикали. Снаружи каждого кожуха (6) размещены постоянные магниты (9), создающие внутри кожухов (6) магнитное поле. Оптический коллектор (3) предпочтительно состоит из нескольких зеркал (4), установленных на пути каждого из пучков коротковолнового излучения. В варианте изобретения плазма представляет собой лазерную плазму материала жидкометаллической мишени (16), поставляемой в область фокусировки лазерного пучка с помощью вращающегося мишенного узла (19). Технический результат - создание мощных высокояркостных источников коротковолнового излучения с высокоэффективным подавлением загрязнений в пучке коротковолнового излучения, распространяющемся в большом, предпочтительно более 0,25 ср, телесном угле. 2 н. и 15 з.п. ф-лы, 3 ил.
Изобретение относится к области светотехники. Источник света содержит заполненную газом камеру (1) с областью излучающей плазмы (2), поддерживаемой в камере сфокусированным пучком (3) непрерывного лазера (4). Средством зажигания плазмы является импульсная лазерная система (9), генерирующая первый и второй лазерные пучки (10), (11), сфокусированные в камеру. Способ зажигания плазмы характеризуется тем, что первым лазерным пучком осуществляют оптический пробой, после которого вторым лазерным пучком зажигают плазму, объем и плотность которой достаточны для стационарного поддержания плазмы пучком непрерывного лазера. Предпочтительно генерируют первый лазерный пучок в режиме с модулированной добротностью резонатора и генерируют второй лазерный пучок в режиме свободной генерации с помощью твердотельной лазерной системы. В отличие от источников с использованием электродов для стартового зажигания плазмы, достигается возможность оптимизировать геометрию камеры, уменьшить в ней турбулентность конвективных газовых потоков и минимизировать оптические аберрации, а также увеличить пространственный угол сбора излучения плазмы. Технический результат - создание наиболее высокояркостных широкополосных источников света с высокой пространственной и энергетической стабильностью и сбором излучения плазмы в пространственном угле более 9 ср. 2 н. и 20 з.п. ф-лы, 5 ил.
Изобретение относится к высокояркостному источнику коротковолнового излучения на основе лазерной плазмы. Источник содержит вакуумную камеру (1) с вращающимся мишенным узлом (2), поставляющим в зону взаимодействия (3) со сфокусированным лазерным пучком (7) мишень (4) в виде слоя расплавленного металла. В качестве средства подавления загрязнений вблизи зоны взаимодействия (3) неподвижно установлен экран (12) с двумя отверстиями (13), (14) для ввода лазерного пучка в зону взаимодействия (3) и вывода из нее полезного пучка коротковолнового излучения (8). Экран (12) может быть отделен от вращающегося мишенного узла (2) щелевыми зазорами (15), (16). Комплекс средств подавления загрязнений предпочтительно включает вращение мишени с высокой линейной скоростью, более 80 м/с; ориентацию, по меньшей мере, одного из пучков (7), (8) лазерного и коротковолнового излучения под углом менее 45° к поверхности мишени; сопло (27), подающее высокоскоростной поток газа в зону взаимодействия (3). Техническийм результатом является создание чистых высокояркостных источников коротковолнового излучения в диапазоне длин волн от 0.4 до 200 нм с высоким сроком службы. 18 з.п. ф-лы, 4 ил.
ИСТОЧНИК РЕНТГЕНОВСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ С ЖИДКОМЕТАЛЛИЧЕСКОЙ МИШЕНЬЮ И СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ИЗЛУЧЕНИЯ // 2709183
Изобретение относится к области рентгенотехники, в частности к высокояркостным источникам рентгеновского излучения с жидкометаллической мишенью. Жидкометаллическая мишень (6) представляет собой слой расплавленного металла, образованный центробежной силой на обращенной к оси вращения (7) поверхности (8) кольцевого желоба (9) вращающегося анодного узла (10). Способ генерации рентгеновского излучения включает электронную бомбардировку жидкометаллической мишени (6), материал которой относится к группе Sn, Li, In, Ga, Pb, Bi, Zn и их сплавам, и вывод пучка рентгеновского излучения через выходное окно (2) вакуумной камеры (1). Предпочтительно вращающийся анодный узел охлаждают протоком жидкого теплоносителя (20), размер фокусного пятна (4) на мишени составляет менее 50 мкм, а линейная скорость мишени (6) - более 80 м/с. В вариантах изобретения защищают выходное окно (2) от загрязнений с помощью установленной перед ним сменной мембраны из углеродных нанотрубок. Технический результат - упрощение системы формирования жидкометаллической мишени, оптимизация материала мишени, повышение ее скорости, устранение загрязнений выходного окна, увеличение яркости, срока службы и удобства эксплуатации источника рентгеновского излучения. 2 н. и 11 з.п. ф- лы, 2 ил.
Изобретение направлено на усовершенствование высокояркостных источников излучения в диапазоне длин волн от 0,01 до 20 нм за счет глубокого подавления загрязняющих частиц на пути прохождения пучка коротковолнового излучения. Цель достигается за счет использования пучка энергии (11), сфокусированного на мишени (4), представляющей собой слой расплавленного металла, образованного центробежной силой на обращенной к оси вращения поверхности кольцевого желоба вращающегося мишенного узла (2), и применения средств подавления загрязнений на пути прохождения пучка коротковолнового излучения (13). Высокоэффективное подавление загрязнений достигается за счет вращения мишени с высокой, более 20 м/с, линейной скоростью, вывода пучка коротковолнового излучения (13) в направлении, отличном от направления преимущественного выхода микрокапельной фракции загрязнений, установки на пути прохождения пучка коротковолнового излучения сменной мембраны (20) из углеродных нанотрубок. Коротковолновое излучение генерируется либо лазерной плазмой материала мишени, либо в виде рентгеновского излучения при бомбардировке мишени электронным пучком. Технический результат - создание наиболее высокояркостных источников экстремального ультрафиолетового (ЭУФ) и рентгеновского излучения с высоким сроком службы и удобством эксплуатации. 11 з.п. ф-лы, 9 ил.
Изобретение относится к области оптоэлектронного приборостроения и касается спектрально-селективного поглотителя ИК излучения и микроболометрического детектора. Поглотитель включает в себя плоскопараллельный резонатор с передним и задним зеркалами. Переднее зеркало выполнено в виде металлической пленки, служащей поглощающим слоем. Заднее зеркало выполнено из полярного диэлектрика с высоким, более 95 %, коэффициентом отражения в полосе остаточных лучей. Микроболометрический детектор содержит матрицу пикселей, каждый из которых включает в себя поглотитель ИК излучения, мембрану с термочувствительным слоем, имеющим тепловой контакт с передним зеркалом поглотителя и кремниевую подложку со сформированными в ней структурой поддержки мембран и схемой управления и считывания показаний пикселей. Технический результат заключается в упрощении конструкции поглотителя, повышении спектральной селективности и обеспечении возможности спектральной перестройки. 2 н. и 8 з.п. ф-лы, 6 ил.
Кондукционный МГД-насос и насосная система // 2701154
Изобретение относится к электротехнике, к компактным магнитогидродинамическим (МГД) насосам. Технический результат состоит в уменьшении габаритов, упрощении конструкции и эксплуатации, повышении надежности и ресурса, обеспечении чистых условий прокачки широкого ряда жидких металлов и сплавов при высоком (2 бар) напоре с производительностью ~ 100 см3/c. МГД-насос содержит рабочий канал, образованный уплощенной секцией (1) тонкостенной трубки (2) из нержавеющей стали, к которому через две токоведущие шины (4), (5) подключен источник постоянного тока (3). Источник магнитного поля выполнен в виде расположенных друг против друга двух постоянных магнитов (6), (7), соединенных между собой магнитопроводом (8). Рабочий канал размещен между двумя постоянными магнитами с щелевыми зазорами, в каждом из которых размещены: электроизолирующая прокладка (9), полосковая нагревающая шина (10), подключенная к дополнительному источнику тока (11), и теплоизолирующая прокладка (12). Каждая из токоведущих шин предпочтительно снабжена тепловым барьером (16) и теплообменником (17). В насосной системе из последовательно соединенных МГД-насосов рабочие каналы выполнены из идентичных тонкостенных трубок, и рабочий канал МГД-насоса, стоящего первым по потоку прокачиваемой среды, имеет большее поперечное сечение. 2 н. и 7 з.п. ф-лы, 3 ил.
ХИРУРГИЧЕСКАЯ ЛАЗЕРНАЯ СИСТЕМА // 2694126
Изобретение направлено на создание универсальной хирургической лазерной системы преимущественно для использования в оперативной урологии, в частности, при лечении доброкачественной гиперплазии предстательной железы и мочекаменной болезни. Задачи изобретения решаются тем, что задающий генератор снабжен сборками квазинепрерывных или QCW-лазерных диодов накачки, а усилитель мощности снабжен сборками непрерывных или CW-лазерных диодов накачки. В вариантах изобретения накачка активного элемента усилителя мощности осуществляется CW - лазерными диодами в непрерывном режиме, а временной интервал t между импульсами задающего генератора равен или меньше эффективного времени жизни τ верхнего лазерного уровня: t≤τ. Активные элементы лазерной системы могут содержать базовый материал, предпочтительно LiYF4, легированный ионами Tm3+, либо ионами Tm3+ и Но3+. Технический результат - создание высокоэффективных хирургических лазерных систем с высокими импульсной (2-5 кВт) и средней (100 Вт и более) мощностью излучения на длине волны, выбираемой в диапазоне 1,85-2,1 мкм. 2 н. и 16 з.п. ф-лы, 5 ил.
Изобретение относится к лазерной технике. Лазерная система инфракрасного (ИК) диапазона включает в себя импульсный задающий генератор, снабженный сборками квазинепрерывных или QCW-лазерных диодов накачки, и усилитель мощности, снабжённый сборками непрерывных или CW-лазерных диодов накачки. В вариантах изобретения накачка активного элемента усилителя мощности осуществляется CW-лазерными диодами в непрерывном режиме, а временной интервал t между импульсами задающего генератора равен или меньше эффективного времени жизни τ верхнего лазерного уровня: t ≤ τ. Активные элементы лазерной системы могут содержать базовый материал, легированный ионами Tm3+, либо ионами Tm3+ и Но3+. Технический результат заключается в обеспечении возможности создания лазерных систем с высокими импульсной (2-5 кВт) и средней, 100 Вт и более, мощностью излучения на длине волны, выбираемой в диапазоне 1,85 - 2,1 мкм, предназначенных, в том числе, для лазерной хирургии. 2 н. и 13 з.п. ф-лы, 5 ил.
Изобретение относится к источнику излучения на основе лазерной плазмы. Область применений включает ЭУФ метрологию, инспекцию микро- и наноструктур, актиническую инспекцию литографических ЭУФ масок. Мишенью (4) является образуемый при воздействии центробежной силы слой расплавленного металла на внутренней поверхности (16) дальней стенки (13) кольцевого желоба (11), выполненного во вращающемся мишенном узле (3). В вариантах изобретения возможна синхронизация моментов лазерных импульсов с углами поворота вращающегося мишенного узла, при которых обеспечивается прямая видимость между зоной взаимодействия (5) и входным и выходным окнами (6), (8) через n пар отверстий (17), (18) в ближней стенке (14) кольцевого желоба, где n находится в диапазоне от 10 до 100. Техническим результатом является подавление потока загрязняющих частиц в высокояркостном источнике коротковолнового излучения, что обеспечивает повышение его долговечности за счет чрезвычайно низкого уровня загрязнений. 2 н. и 18 з.п. ф-лы, 5 ил.
КОМПАКТНЫЙ ШИРОКОДИАПАЗОННЫЙ ВУФ СПЕКТРОМЕТР // 2661742
Изобретение относится к области аналитического приборостроения и касается компактного широкодиапазонного спектрометра вакуумного ультрафиолетового (ВУФ) и мягкого рентгеновского (MP) диапазона. Спектрометр скользящего падения состоит из корпуса с входной щелью, дифракционной решетки и детектора. Дифракционная решетка с постоянным периодом d имеет плоские отражающие рабочие грани, лежащие в плоскости решетки, и не отражающие свет углубления между рабочими гранями. Детектор обеспечивает регистрацию ВУФ спектра в плюс первом и в минус первом порядке дифракции, причем длинноволновая граница λ+1 рабочей области спектра плюс первого порядка во много раз меньшей длинноволновой границы λ-1 рабочей области спектра минус первого порядка: λ+1<<λ-1, а спектральное разрешение (λ/δλ)+1 в рабочей области спектра плюс первого порядка во много раз больше спектрального разрешения (λ/δλ)-1 в рабочей области спектра минус первого порядка: (λ/δλ)+1>>(λ/δλ)-1. Техническим результатом изобретения является регистрация спектра в широком спектральном диапазоне (3-200 нм), с умеренным спектральным разрешением (λ/δλ~15-30) и со значительно более высоким спектральным разрешением (λ/δλ~100-200) в узком мягком рентгеновском или экстремальном ультрафиолетовом диапазоне с возможностью измерения абсолютного выхода излучения в этих областях спектра, а также уменьшение размеров спектрометра. 2 н. и 19 з.п. ф-лы, 6 ил.
ШИРОКОПОЛОСНЫЙ ОТРАЖАТЕЛЬНЫЙ ФИЛЬТР // 2660078
Изобретение относится к оптической технике. Широкополосный отражательный фильтр с отсечкой коротковолнового излучения содержит систему из четырех зеркал, выполненных с возможностью перемещения, изменяющего угол скольжения θ, под которым освещается каждое зеркало. Направление распространения и пространственное положение пучка излучения на выходе отражательного фильтра после последовательного отражения от каждого из зеркал не изменяется при перемещении зеркал. Система из четырех зеркал может представлять собой две пары зеркал, в каждой из которых два плоских зеркала, нормали к поверхности которых коллинеарны и противоположно направлены, установлены неподвижно друг относительно друга, при этом обе пары зеркал выполнены с возможностью их поворота в противоположных направлениях вокруг двух параллельных осей. Техническим результатом изобретения является возможность создания широкополосного отражательного фильтра, характеризующегося настраиваемой в диапазоне 10-100 нм длиной волны λco отсечки коротковолнового излучения, резким наклоном среза, высоким контрастом, надежностью и удобством эксплуатации. 16 з.п. ф-лы, 5 ил.
Изобретение обеспечивает создание коммерчески доступного источника ЭУФ излучения для ЭУФ метрологии и актинической инспекции литографических ЭУФ масок. Реализуется за счет использования лазерной мишени в виде непрерывной струи жидкого лития (1), циркулирующего через зону взаимодействия по замкнутому контуру (9) посредством высокотемпературного насоса (11). Коллекторное зеркало (7) размещено снаружи вакуумной камеры (3) в среде, заполненной инертным газом, и выход пучка ЭУФ излучения (8) из зоны взаимодействия (2) на коллекторное зеркало (7) осуществляется через ЭУФ фильтр (12), служащий выходным ЭУФ окном вакуумной камеры. Входное окно (5) для ввода лазерного пучка (6) снабжено экранирующим оптическим элементом (25). Испарительного очистка ЭУФ фильтра (12) и экранирующего оптического элемента (25) обеспечиваются их нагревом до 350-450°С. Вокруг струи жидкого лития установлен защитный кожух (20) с температурой выше 180°С. Технический результат - повышение надежности и срока службы источника ЭУФ излучения, упрощение его конструкции и снижение стоимости эксплуатации при обеспечении высокой яркости, высокой пространственной и энергетической стабильности. 2 н. и 15 з.п. ф-лы, 2 ил.
Заявленное изобретение относится к устройству источников света с лазерной накачкой. Заявленное устройство включает камеру (1), содержащую газ, лазер (2), оптический элемент (4), область излучающей плазмы (6), блокатор (8) и оптическую систему сбора излучения плазмы (14). Числовая апертура сфокусированного лазерного пучка и мощность лазера выбраны таким образом, чтобы область излучающей плазмы была протяженной вдоль оси (10) сфокусированного лазерного пучка. При этом предполагается обеспечение яркости излучения плазмы в направлении вдоль оси пучка, близкой к максимально достижимой для данной мощности лазера, и числовая апертура прошедшего через область излучающей плазмы лазерного пучка со второй стороны (11) камеры меньше числовой апертуры пучка с первой стороны (5) камеры за счет образования плазменной линзы в области излучающей плазмы. При этом оптическая система сбора излучения плазмы расположена со второй стороны камеры. Техническим результатом изобретения является расширение функциональных возможностей источника света с лазерной накачкой за счет повышения яркости, увеличения коэффициента поглощения лазерного излучения плазмой, значительного уменьшения числовой апертуры блокируемого расходящегося лазерного пучка, прошедшего через плазму. 2 н. и 16 з.п. ф-лы, 3 ил., 1 табл.
Изобретение относится к области источников света с лазерной накачкой. Технический результат - расширение функциональных возможностей источника света с лазерной накачкой за счет повышения его пространственной и энергетической стабильности, увеличения яркости, повышения надежности работы в долговременном режиме при обеспечении компактности устройства. Сфокусированный лазерный пучок (7) направлен в область излучающей плазмы (5) снизу вверх: от нижней стенки (10) камеры (1) к противоположной ей верхней стенке (11) камеры (1), и область излучающей плазмы (5) расположена вблизи верхней стенки (11) камеры (1). В вариантах изобретения сфокусированный лазерный луч направляют вдоль вертикальной оси (13) симметрии стенок (10, 11) камеры, область излучающей плазмы (5) создают на оптимально малом расстоянии от верхней стенки (11) камеры (1), не оказывающем негативного воздействия на ресурс устройства, охлаждают камеру (1) потоком (40) защитного газа, направленным на верхнюю стенку (11) камеры (1) и с помощью автоматизированной системы управления (46, 47, 49) обеспечивают поддержание заданной мощности излучения в запрограммированном режиме. 2 н. и 24 з.п. ф-лы, 1 табл., 5 ил.
ЖАРОПРОЧНАЯ МАГНИТНАЯ МУФТА // 2496033
Изобретение относится к магнитным муфтам и может использоваться в герметичных насосах, компрессорах и системах передачи движения. Технический результат заключается в создании жаропрочной магнитной муфты, предназначенной для передачи движения в горячих средах, в частности в расплавленных металлах с температурой выше 300°C. Жаропрочная магнитная муфта содержит горячую камеру, моторную камеру и герметизирующий экран. В горячей камере размещена установленная на ведомом валу ведомая полумуфта. В моторной камере размещена часть ведущего металлического вала и соединенная с ведущим валом ведущая полумуфта с набором постоянных магнитов. Герметизирующий экран отделяет моторную и горячую камеры. Ведомая полумуфта представляет собой зубчатый магнитопровод, выполненный из металла, относящегося к группе ферромагнетиков с высокой температурой Кюри TC, например из железа (TC=769°C). Моторная камера выполнена вакуумируемой. Вакуумный зазор между ведущей полумуфтой и герметизирующим экраном служит тепловым барьером, интегрированным в магнитную муфту. Корпус моторной камеры включает в себя тепловой барьер, а ведущий вал снабжен жидкостным охлаждением. 14 з.п. ф-лы, 2 ил.
Группа изобретений относится к устройству и способу для генерации мощного оптического излучения, в частности, в области экстремального УФ (ЭУФ) или мягкого рентгеновского излучения в диапазоне длин волн примерно от 1 нм до 30 нм. Область применения включает ЭУФ - литографию при производстве интегральных схем или метрологию. Технический результат-повышение мощности пучка оптического излучения. В устройстве и способе для генерации излучения из разрядной плазмы осуществляют лазерно-инициируемый разряд между первым и вторым электродами с вводом энергии импульсного источника питания в плазму разряда и генерацией из плазмы разряда излучения наряду с побочным продуктом в виде нейтральных и заряженных загрязняющих частиц (debris), при этом за счет выбора места облучения электрода лазерным лучом, геометрии электродов и разрядного контура формируют асимметричный разряд преимущественно изогнутой/бананообразной формы, собственное магнитное поле которого непосредственно вблизи разряда имеет градиент, определяющий направление преимущественного движения потока разрядной плазмы от электродов в область менее сильного магнитного поля. 2 н. и 6 з.п. ф-лы, 4 ил.
ЦЕНТРОБЕЖНЫЙ НАСОС С МАГНИТНОЙ МУФТОЙ ДЛЯ ПЕРЕКАЧКИ РАСПЛАВЛЕННЫХ МЕТАЛЛОВ И ГОРЯЧИХ СРЕД // 2488716
Изобретение относится к насосам для перекачки расплавленных металлов и горячих сред, в частности для формирования струй жидкого металла, служащих в качестве жидкометаллического электрода в мощных источниках рентгеновского или экстремального ультрафиолетового излучения
