Патенты автора Смирнов Александр Вячеславович (RU)
Изобретение относится к медицине, а именно к рентгенэндоваскулярной хирургии. Вводят катетер в лучевую артерию. Под рентгеновским контролем определяют ветви левой желудочной артерии, которые снабжают часть желудка, отвечающую за выработку гормона грелина. Начинают введение эмболизирующих капсул диаметром 400-450 микрон с крайней верхней ветви артерии. Затем эмболизируют крайнюю нижнюю ветвь артерии, после этого последовательно эмболизируют средние ветви. При этом катетер вводят в каждую ветвь на глубину 4-6 мм. Способ обеспечивает повышение лечебного эффекта, снижение риска возникновения осложнений, за счет обеспечения более точного выявления ветвей желудочной артерии, сокращения площади ишемизации тканей, позволяет уменьшить вероятность возникновения болевого синдрома в верхних отделах живота, выраженности тошноты, уменьшает сроки пребывания в стационаре. 1 ил., 2 пр.
Изобретение относится к области медицины, а именно к бариатрической хирургии. Выполняют калибровку ширины гастроэнтероанастомоза на зонде. После формирования малого желудка петлю тонкой кишки впередиободочно подводят к малому желудку. Формируют при помощи линейного эндоскопического сшивающего аппарата гастроэнтероанастомоз с передней стенкой малого желудка. Выполняют калибровку ширины гастроэнтероанастомоза при помощи ручного интракорпорального шва рассасывающейся нитью, путем ушивания технологического окна, оставшегося после формирования аппаратного гастроэнтероанастомоза, в поперечном направлении по отношению к линии гастероэтероанастомоза на назогастральном зонде. Способ позволяет минимизировать риск развития послеоперационного демпинг-синдрома за счет создания искусственного сужения в виде клапана, который не позволяет желудочному содержимому поступать в большом количестве одномоментно в тощую кишку, а также минимизирует риск повторного набора веса в послеоперационном периоде за счет калибровки ширины анастомоза и опосредованного регулирования количества пищи, проходящей через него. 3 ил., 1 пр.
ДАТЧИК ВЛАЖНОСТИ // 2647168
Использование: для измерения степени влажности газовой среды. Сущность изобретения заключается в том, что датчик влажности содержит подложку из диэлектрического материала с осажденными на нее пленочными электродами и диэлектрической пленкой в промежутке между ними, электроды разнесены на подложке относительно друг друга с образованием промежутка 0,1-2,0 мм и выполнены путем термического осаждения в вакууме на подложку, выполненную из керамики, слоя пленок из алюминия для каждого из электродов, пленку последующего второго слоя из металла, выбранного из группы Al, Ti, Sn для одного из электродов и последующего второго слоя из Ag для другого электрода, а также нанесения на поверхность второго слоя каждого из электродов и в промежуток между электродами на поверхность керамической подложки подвергнутой после ее нанесения совместно со всеми слоями и керамической подложкой отжигу на воздухе при температуре 400°С в течение 10 мин пленки линейно-цепочечного углерода, полученной путем осаждения в вакууме графита, испаряемого импульсным дуговым разрядом с помощью плазмы, создаваемой дуговым разрядом вне области разрядного промежутка в виде компенсированных бестоковых форсгустков углеродной плазмы плотностью 5⋅1012-1⋅1013 см-3, длительностью 200-600 мкс, частотой следования 1-5 Гц, при стимуляции углеродной плазмы инертным газом в виде потока ионов с энергией 150-2000 эВ, направленного перпендикулярно потоку углеродной плазмы.Технический результат: обеспечение возможности увеличения чувствительности, и диапазона определения влажности. 1 з.п. ф-лы, 5 ил.
Изобретение относится к способу получения пленочного металлсодержащего углеродного наноматериала, который может быть использован в различных элементах электроники, в частности при разработке фоторезисторов, фотоприемников, фотодиодов и элементов фотовольтаики. Технический результат - повышение функциональных свойств материала, расширение ассортимента получаемых фоточувствительных наноматериалов. Способ включает последовательное осаждение на подложку в вакууме металла и графита. Металл осаждают термическим испарением, а графит - испарением импульсным дуговым разрядом и осаждением с помощью компенсированных бестоковых форсгустков углеродной плазмы плотностью 5·1012-1·1013 см-3, длительностью 200-600 мкс, частотой следования 1-5 Гц, стимулируемой в процессе осаждения инертным газом в виде потока ионов с энергией 150-2000 эВ, направляемый перпендикулярно потоку форсгустков плазмы. После осаждения осуществляют отжиг подложки в среде азота при температуре 150-500°C в течение 1-10 мин. При этом используют подложку из кремния с собственной проводимостью, а в качестве металла используют металл, выбранный из группы, включающей кадмий; композицию из серебра и никеля; композицию из серебра, никеля и кадмия. 13 ил., 6 пр.
