Патенты автора Бикташев Айрат Адипович (RU)
ВАКУУМНЫЙ ЩЕЛЕВОЙ ЗАТВОР // 2780115
Изобретение относится к оборудованию вакуумных приборов и может быть использовано в качестве загрузочных или шлюзовых устройств. Вакуумный щелевой затвор предназначен для взаимной изоляции вакуумных объемов в транспортных системах со шлюзовой или кластерной камерами. Вакуумный щелевой затвор включает корпус затвора, заслонку, привод, механизм перемещения заслонки со штоком затвора и механизм герметизации заслонки, установленный в сквозном отверстии штока затвора и включающий толкатель заслонки, пружину, охватывающую толкатель заслонки, и ролик толкателя заслонки, закрепленный одновременно на заслонке и на толкателе заслонки; при этом механизм перемещения заслонки выполнен в виде коаксиальной поступательной пары, размещенной в корпусе затвора и включающей шток затвора и толкатель затвора, также на внешней стенке штока затвора установлен распорный ролик, выполненный с возможностью перемещения по стенке корпуса, а толкатель затвора содержит конусный наконечник, выполненный с возможностью зацепления с механизмом герметизации заслонки для обеспечения плотного прилегания заслонки к корпусу затвора. Изобретение направлено на повышение качества герметизации длинномерных и разных по геометрии проходных сечений и повышение надежности вакуумного затвора. 5 з.п. ф-лы, 4 ил.
Изобретение относится к области нанесения покрытий из сплавов, металлов, неметаллов и их соединений, в том числе многокомпонентных, на порошковые материалы, а также для обработки порошковых материалов в плазме. Устройство для нанесения покрытий на порошковые материалы содержит вакуумную камеру с крышками, снабженную системой откачки, по меньшей мере два технологических источника потока напыляемых частиц, установленных на поворотных портах, обеспечивающих поворот каждого технологического источника в отдельности относительно своей оси и размещенных на поворотном фланце, установленном на крышке вакуумной камеры. При этом оно содержит систему перемещения порошка, снабженную загрузочной тележкой с опорными роликами, на которые установлен барабан. Барабан размещен в вакуумной камере, а его внутренняя поверхность снабжена перемешивающими выступами или ребрами. При этом упомянутые источники потока напыляемых частиц размещены по всей длине барабана. Обеспечивается возможность нанесения покрытий на порошковые материалы с размером частиц от нескольких микрон до нескольких миллиметров с различной конфигурацией поверхности, природы частиц и их степени дисперсности. 7 з.п. ф-лы, 5 ил.
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ МИШЕНИ И/ИЛИ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ ОБЪЕКТА И СПОСОБ ЕГО ПРИМЕНЕНИЯ // 2510735
Изобретение относится к области обработки поверхности объекта. Устройство для ионного распыления мишени и/или обработки поверхности объекта содержит кольцевой источник ионов, формирующий ионный пучок, распространяющийся в промежутке между двумя условными вложенными друг в друга сходящимися - в направлении от источника ионов к держателю объекта (мишени) - коническими поверхностями, образующие которых составляют с общей осью конусов разные углы и общее основание которых совпадает с окружностью, ограниченной круговой выходной щелью кольцевого источника ионов. Устройство содержит также держатель объекта или мишени, который может вращаться, наклоняться, терморегулироваться. Расстояние между источником ионов и держателем мишени может меняться по заданной программе, при этом благодаря описанной выше форме ионного пучка меняются область и размеры облучаемой ионами поверхности. Технический результат - повышение равномерности обработки поверхности. 2 н. и 3 з.п. ф-лы, 1 ил.
РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЙ УЗЕЛ ПЛОСКОГО МАГНЕТРОНА // 2500834
Изобретение относится к области магнетронного распыления материалов. Узел магнетронного распыления содержит распыляемую мишень и по меньшей мере одну плоскую магнитную систему. Плоская магнитная система установлена на водиле с приводом его вращения вокруг оси, перпендикулярной поверхности распыляемой мишени. По меньшей мере один носитель по меньшей мере одной плоской магнитной системы имеет привод его вращения вокруг дополнительной оси, параллельной оси вращения водила. По меньшей мере одна плоская магнитная система установлена на носителе магнитной системы со смещением относительно дополнительной оси. Скорости вращения магнитной системы вокруг первой и вокруг второй осей изменяют по заданной программе. В результате достигается равномерность распыления мишени, увеличение степени использования материала мишени и увеличение скорости распыления. 7 з.п. ф-лы, 3 ил.
