Патенты автора Медведев Вячеслав Валерьевич (RU)
Изобретение относится к Li-содержащему материалу мишени, предназначенному для получения излучающей плазмы в высокояркостных источниках света и для генерации излучения в области экстремального ультрафиолета (ЭУФ) на длине волны 13,5 нм. В качестве материала мишени используется эвтектический сплав Li с дополнительным элементом, позволяющим многократно увеличить плотность материала мишени по сравнению с плотностью Li при атомной доле Li от 90% до 60%. Дополнительный элемент выбран из группы, включающей в себя Au, Ag, Bi, Ва, Sr. Указанный материал мишени предпочтительно используют в ЭУФ источнике на основе лазерной плазмы с быстровращающейся мишенью (не менее 100 м/с), в котором капельная фракция загрязнений не направлена в пространственные области прохождения пучков лазерного и ЭУФ излучения. Техническим результатом является расширение круга применений компактных чистых источников излучения с высокой спектральной яркостью на 13,5 нм благодаря резкому снижению скорости капельной фракции загрязняющих частиц и возможности управлять направлением ее вылета из Li-содержащей плазмы за счет высокой скорости мишени. 4 н. и 12 з.п. ф-лы, 7 ил.
Изобретение относится к высокояркостным источникам излучения в области длин волн приблизительно от 0.4 до 120 нм. Технический результат - увеличение средней мощности и спектрального диапазона собираемого излучения в компактных источниках мягкого рентгеновского, ЭУФ и ВУФ излучения высокой яркости Способ включает формирование под действием центробежной силы мишени в виде слоя расплавленного металла. Мишень вращают с линейной скоростью не менее 100 м/с. При этом большая часть капельной фракции загрязнений и вектор линейной скорости мишени в зоне взаимодействия направлены по одну сторону от плоскости, проходящей через зону взаимодействия и ось вращения мишенного узла. Одновременно импульсное облучение мишени и сбор излучения из плазмы осуществляют так, что пучок коротковолнового излучения плазмы и сфокусированный пучок лазерного излучения находятся по другую сторону указанной плоскости. Источник коротковолнового излучения содержит два соосных блока эллипсоидных зеркал, расположенных последовательно по пути пучка коротковолнового излучения плазмы. На пути пучка коротковолнового излучения к оптическому коллектору размещены средства подавления загрязнений. 2 н. и 15 з.п. ф-лы, 3 ил.
Изобретение относится к импульсным высокояркостным источникам излучения в диапазоне длин волн 0.4-120 нм. Источник излучения содержит вакуумную камеру (1) с областью импульсной излучающей плазмы и средства подавления загрязнений (5), включающие в себя два или более кожухов (6), предназначенных для формирования свободных от загрязнений гомоцентрических пучков (7) коротковолнового излучения, направленных из области импульсной излучающей плазмы (2) к оптическому коллектору (3), Поверхность каждого кожуха (6) содержит две первые грани (8), ориентированные в радиальных направлениях к области импульсной излучающей плазмы и параллельные выделенному направлению, например вертикали. Снаружи каждого кожуха (6) размещены постоянные магниты (9), создающие внутри кожухов (6) магнитное поле. Оптический коллектор (3) предпочтительно состоит из нескольких зеркал (4), установленных на пути каждого из пучков коротковолнового излучения. В варианте изобретения плазма представляет собой лазерную плазму материала жидкометаллической мишени (16), поставляемой в область фокусировки лазерного пучка с помощью вращающегося мишенного узла (19). Технический результат - создание мощных высокояркостных источников коротковолнового излучения с высокоэффективным подавлением загрязнений в пучке коротковолнового излучения, распространяющемся в большом, предпочтительно более 0,25 ср, телесном угле. 2 н. и 15 з.п. ф-лы, 3 ил.
Изобретение относится к высокояркостному источнику коротковолнового излучения на основе лазерной плазмы. Источник содержит вакуумную камеру (1) с вращающимся мишенным узлом (2), поставляющим в зону взаимодействия (3) со сфокусированным лазерным пучком (7) мишень (4) в виде слоя расплавленного металла. В качестве средства подавления загрязнений вблизи зоны взаимодействия (3) неподвижно установлен экран (12) с двумя отверстиями (13), (14) для ввода лазерного пучка в зону взаимодействия (3) и вывода из нее полезного пучка коротковолнового излучения (8). Экран (12) может быть отделен от вращающегося мишенного узла (2) щелевыми зазорами (15), (16). Комплекс средств подавления загрязнений предпочтительно включает вращение мишени с высокой линейной скоростью, более 80 м/с; ориентацию, по меньшей мере, одного из пучков (7), (8) лазерного и коротковолнового излучения под углом менее 45° к поверхности мишени; сопло (27), подающее высокоскоростной поток газа в зону взаимодействия (3). Техническийм результатом является создание чистых высокояркостных источников коротковолнового излучения в диапазоне длин волн от 0.4 до 200 нм с высоким сроком службы. 18 з.п. ф-лы, 4 ил.
ИСТОЧНИК РЕНТГЕНОВСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ С ЖИДКОМЕТАЛЛИЧЕСКОЙ МИШЕНЬЮ И СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ИЗЛУЧЕНИЯ // 2709183
Изобретение относится к области рентгенотехники, в частности к высокояркостным источникам рентгеновского излучения с жидкометаллической мишенью. Жидкометаллическая мишень (6) представляет собой слой расплавленного металла, образованный центробежной силой на обращенной к оси вращения (7) поверхности (8) кольцевого желоба (9) вращающегося анодного узла (10). Способ генерации рентгеновского излучения включает электронную бомбардировку жидкометаллической мишени (6), материал которой относится к группе Sn, Li, In, Ga, Pb, Bi, Zn и их сплавам, и вывод пучка рентгеновского излучения через выходное окно (2) вакуумной камеры (1). Предпочтительно вращающийся анодный узел охлаждают протоком жидкого теплоносителя (20), размер фокусного пятна (4) на мишени составляет менее 50 мкм, а линейная скорость мишени (6) - более 80 м/с. В вариантах изобретения защищают выходное окно (2) от загрязнений с помощью установленной перед ним сменной мембраны из углеродных нанотрубок. Технический результат - упрощение системы формирования жидкометаллической мишени, оптимизация материала мишени, повышение ее скорости, устранение загрязнений выходного окна, увеличение яркости, срока службы и удобства эксплуатации источника рентгеновского излучения. 2 н. и 11 з.п. ф- лы, 2 ил.
Изобретение направлено на усовершенствование высокояркостных источников излучения в диапазоне длин волн от 0,01 до 20 нм за счет глубокого подавления загрязняющих частиц на пути прохождения пучка коротковолнового излучения. Цель достигается за счет использования пучка энергии (11), сфокусированного на мишени (4), представляющей собой слой расплавленного металла, образованного центробежной силой на обращенной к оси вращения поверхности кольцевого желоба вращающегося мишенного узла (2), и применения средств подавления загрязнений на пути прохождения пучка коротковолнового излучения (13). Высокоэффективное подавление загрязнений достигается за счет вращения мишени с высокой, более 20 м/с, линейной скоростью, вывода пучка коротковолнового излучения (13) в направлении, отличном от направления преимущественного выхода микрокапельной фракции загрязнений, установки на пути прохождения пучка коротковолнового излучения сменной мембраны (20) из углеродных нанотрубок. Коротковолновое излучение генерируется либо лазерной плазмой материала мишени, либо в виде рентгеновского излучения при бомбардировке мишени электронным пучком. Технический результат - создание наиболее высокояркостных источников экстремального ультрафиолетового (ЭУФ) и рентгеновского излучения с высоким сроком службы и удобством эксплуатации. 11 з.п. ф-лы, 9 ил.
Изобретение относится к области оптоэлектронного приборостроения и касается спектрально-селективного поглотителя ИК излучения и микроболометрического детектора. Поглотитель включает в себя плоскопараллельный резонатор с передним и задним зеркалами. Переднее зеркало выполнено в виде металлической пленки, служащей поглощающим слоем. Заднее зеркало выполнено из полярного диэлектрика с высоким, более 95 %, коэффициентом отражения в полосе остаточных лучей. Микроболометрический детектор содержит матрицу пикселей, каждый из которых включает в себя поглотитель ИК излучения, мембрану с термочувствительным слоем, имеющим тепловой контакт с передним зеркалом поглотителя и кремниевую подложку со сформированными в ней структурой поддержки мембран и схемой управления и считывания показаний пикселей. Технический результат заключается в упрощении конструкции поглотителя, повышении спектральной селективности и обеспечении возможности спектральной перестройки. 2 н. и 8 з.п. ф-лы, 6 ил.
Изобретение относится к источнику излучения на основе лазерной плазмы. Область применений включает ЭУФ метрологию, инспекцию микро- и наноструктур, актиническую инспекцию литографических ЭУФ масок. Мишенью (4) является образуемый при воздействии центробежной силы слой расплавленного металла на внутренней поверхности (16) дальней стенки (13) кольцевого желоба (11), выполненного во вращающемся мишенном узле (3). В вариантах изобретения возможна синхронизация моментов лазерных импульсов с углами поворота вращающегося мишенного узла, при которых обеспечивается прямая видимость между зоной взаимодействия (5) и входным и выходным окнами (6), (8) через n пар отверстий (17), (18) в ближней стенке (14) кольцевого желоба, где n находится в диапазоне от 10 до 100. Техническим результатом является подавление потока загрязняющих частиц в высокояркостном источнике коротковолнового излучения, что обеспечивает повышение его долговечности за счет чрезвычайно низкого уровня загрязнений. 2 н. и 18 з.п. ф-лы, 5 ил.
ШИРОКОПОЛОСНЫЙ ОТРАЖАТЕЛЬНЫЙ ФИЛЬТР // 2660078
Изобретение относится к оптической технике. Широкополосный отражательный фильтр с отсечкой коротковолнового излучения содержит систему из четырех зеркал, выполненных с возможностью перемещения, изменяющего угол скольжения θ, под которым освещается каждое зеркало. Направление распространения и пространственное положение пучка излучения на выходе отражательного фильтра после последовательного отражения от каждого из зеркал не изменяется при перемещении зеркал. Система из четырех зеркал может представлять собой две пары зеркал, в каждой из которых два плоских зеркала, нормали к поверхности которых коллинеарны и противоположно направлены, установлены неподвижно друг относительно друга, при этом обе пары зеркал выполнены с возможностью их поворота в противоположных направлениях вокруг двух параллельных осей. Техническим результатом изобретения является возможность создания широкополосного отражательного фильтра, характеризующегося настраиваемой в диапазоне 10-100 нм длиной волны λco отсечки коротковолнового излучения, резким наклоном среза, высоким контрастом, надежностью и удобством эксплуатации. 16 з.п. ф-лы, 5 ил.
Изобретение обеспечивает создание коммерчески доступного источника ЭУФ излучения для ЭУФ метрологии и актинической инспекции литографических ЭУФ масок. Реализуется за счет использования лазерной мишени в виде непрерывной струи жидкого лития (1), циркулирующего через зону взаимодействия по замкнутому контуру (9) посредством высокотемпературного насоса (11). Коллекторное зеркало (7) размещено снаружи вакуумной камеры (3) в среде, заполненной инертным газом, и выход пучка ЭУФ излучения (8) из зоны взаимодействия (2) на коллекторное зеркало (7) осуществляется через ЭУФ фильтр (12), служащий выходным ЭУФ окном вакуумной камеры. Входное окно (5) для ввода лазерного пучка (6) снабжено экранирующим оптическим элементом (25). Испарительного очистка ЭУФ фильтра (12) и экранирующего оптического элемента (25) обеспечиваются их нагревом до 350-450°С. Вокруг струи жидкого лития установлен защитный кожух (20) с температурой выше 180°С. Технический результат - повышение надежности и срока службы источника ЭУФ излучения, упрощение его конструкции и снижение стоимости эксплуатации при обеспечении высокой яркости, высокой пространственной и энергетической стабильности. 2 н. и 15 з.п. ф-лы, 2 ил.
АВТОЭМИССИОННЫЙ КАТОД // 2504858
Изобретение относится к устройствам вакуумной электроники, в частности к источникам для получения электронного потока - автоэмиттерам (холодным эмиттерам) электронов, материалам и способам их изготовления. Подобные катоды могут использоваться в качестве источников электронов в различных электронных приборах - электронных микроскопах, рентгеновских трубках, усилительных и генераторных приборах СВЧ электроники, источниках света и т.п. Технический результат изобретения - получение стабильного автоэмиссионного катода с высокой удельной проводимостью, плотностью автоэмиссионного тока до 20 мА/см2. Результат достигнут использованием в автоэмиссионном катоде объемного композитного материала, содержащего частицы металла, окруженные наноструктурированным углеродным материалом (углеродные или углерод-азотные нанотрубки, углеродные нановолокна, фуллерены и им подобные материалы). При этом металл обеспечивает низкое удельное сопротивление, высокую теплопроводность и механическую прочность, а наноуглеродный материал - высокие эмиссионные свойства катода. Для повышения эффективности автоэлектронной эмиссии при изготовлении катода применены: дополнительная механическая обработка с удалением поверхностного слоя катода и последующей шлифовкой, химическое и плазменное травление рабочей поверхности. Полученный катод обеспечивает плотность автоэмиссионного тока на уровне 10-20 мА/см2 с высокой стабильностью и однородностью. 4 ил.
