Патенты автора Сейсян Рубен Павлович (RU)
Изобретение относится к фильтру спектральной очистки для ЭУФ-нанолитографа с экстремальным ультрафиолетовым излучением с пропусканием 30-70% на длине волны 13,4 нм. Фильтр представляет собой многослойную пленку, нанесенную на высоко прозрачную поддерживающую сетку с ячейками, изготовленную из никеля или золота. Пленка содержит от 30 до 50 пар слоев Si и Mo или Zr, или Nb, относительно прозрачных на длине волны 13,4 нм, расположенных симметрично относительно горизонтальной плоскости, разделяющей фильтр на две равные половины по сечению. Ячейки выполнены гексагональными. Также предложен способ изготовления фильтра. Изобретение позволяет повысить прочность поддерживающей сетки, на которой расположен фильтр, и обеспечить ее прозрачность. 2 н. п. ф-лы.
