Патенты автора Юрген РАММ (CH)

Изобретение относится к вакуумной обработке поверхностей заготовок. Способ нанесения покрытия на металлические заготовки осуществляют в установке вакуумирования, содержащей выполненный в виде мишени первый электрод, который является частью источника испарения электрической дугой и через который подают дуговой разряд с током дугового разряда, посредством которого испаряют материал мишени, и второй электрод, который выполнен в виде держателя заготовок и вместе с заготовками образует электрод смещения, на который подают напряжение смещения. Предварительно обработанную заготовку посредством бомбардировки ее поверхности ионами металла, при этом ионы металла инжектируют в поверхность подложки без съема металла с поверхности и роста слоя, причем в поверхность подложки инжектируют ионы металла, который является компонентом подлежащего несению слоя, и на предварительно обработанную поверхность заготовки осуществляют прямое нанесение слоя. Техническим результатом изобретения является устранение дефектов изменения подложки в процессе ее обработки. 2 н. и 15 з.п. ф-лы, 10 ил.

Изобретение относится к технологии получения стабильных при высоких температурах оксидных слоев. Способ осуществляют посредством испарения мишени из сплава металлических и/или полуметаллических компонентов электрической дугой с формированием оксида, содержащего три или более компонентов. При этом температуру образования оксида регулируют посредством выбора состава сплава мишени, содержащей два или более указанных компонентов на основании фазовой диаграммы двойной системы или системы с большим количеством компонентов. Указанная система характеризует переход из полностью жидкой фазы в содержащую твердые компоненты фазу при температуре, соответствующей требуемой температуре образования оксида. Технический результат - повышение качества осаждаемых слоев. 4 н. и 12 з.п. ф-лы, 6 ил.

Изобретение относится к способу изготовления оксидных слоев посредством напыления конденсацией из паровой фазы (PVD), прежде всего посредством катодного испарения электрической дугой, и может быть использовано для защиты деталей от износа, при изготовлении запирающих слоев, сегнетоэлектриков, сверхпроводников или топливных элементов. Осуществляют испарение порошково-металлургической мишени, состоящей по меньшей мере из двух металлических и/или полуметаллических элементов. Состав металлических и/или полуметаллических элементов, или мишени выбирают таким образом, что во время нагрева при переходе от комнатной температуры в жидкую фазу не пересекается граница раздела чисто твердых фаз соответствующей фазовой диаграммы расплавленной смеси упомянутых элементов. Осаждаются слои заданной кристаллической структуры, при этом исключается образование оксидных островков и уменьшается интеграция металлических брызг в слой. 5 н. и 14 з.п. ф-лы, 14 ил.

Изобретение относится к обработке поверхностей заготовок в установке вакуумирования с выполненным в виде мишени первым электродом, являющимся частью источника испарения электрической дугой, и с выполненным в виде держателя заготовок вторым электродом. Через первый электрод подают дуговой разряд с импульсным током дугового разряда, посредством которого с мишени испаряется материал, который, по меньшей мере, частично и периодически осаждается на заготовках. Второй электрод вместе с заготовками образует электрод смещения. На электрод смещения посредством электропитания подают напряжение смещения, при этом напряжение смещения подают в согласовании с током дугового разряда с обеспечением ионной бомбардировки поверхности подложки при достижении равновесного состояния между образованием на поверхности слоя и его удалением. Способ позволяет осуществлять различные виды обработки поверхностей заготовок при обеспечении нулевого прироста слоя на поверхности от испаряющейся мишени. 14 з.п. ф-лы, 10 ил.

 


Наверх