Патенты автора Бено ВИДРИГ (CH)

Изобретение относится к вакуумной обработке поверхностей заготовок. Способ нанесения покрытия на металлические заготовки осуществляют в установке вакуумирования, содержащей выполненный в виде мишени первый электрод, который является частью источника испарения электрической дугой и через который подают дуговой разряд с током дугового разряда, посредством которого испаряют материал мишени, и второй электрод, который выполнен в виде держателя заготовок и вместе с заготовками образует электрод смещения, на который подают напряжение смещения. Предварительно обработанную заготовку посредством бомбардировки ее поверхности ионами металла, при этом ионы металла инжектируют в поверхность подложки без съема металла с поверхности и роста слоя, причем в поверхность подложки инжектируют ионы металла, который является компонентом подлежащего несению слоя, и на предварительно обработанную поверхность заготовки осуществляют прямое нанесение слоя. Техническим результатом изобретения является устранение дефектов изменения подложки в процессе ее обработки. 2 н. и 15 з.п. ф-лы, 10 ил.

Изобретение относится к способу изготовления оксидных слоев посредством напыления конденсацией из паровой фазы (PVD), прежде всего посредством катодного испарения электрической дугой, и может быть использовано для защиты деталей от износа, при изготовлении запирающих слоев, сегнетоэлектриков, сверхпроводников или топливных элементов. Осуществляют испарение порошково-металлургической мишени, состоящей по меньшей мере из двух металлических и/или полуметаллических элементов. Состав металлических и/или полуметаллических элементов, или мишени выбирают таким образом, что во время нагрева при переходе от комнатной температуры в жидкую фазу не пересекается граница раздела чисто твердых фаз соответствующей фазовой диаграммы расплавленной смеси упомянутых элементов. Осаждаются слои заданной кристаллической структуры, при этом исключается образование оксидных островков и уменьшается интеграция металлических брызг в слой. 5 н. и 14 з.п. ф-лы, 14 ил.

Изобретение относится к обработке поверхностей заготовок в установке вакуумирования с выполненным в виде мишени первым электродом, являющимся частью источника испарения электрической дугой, и с выполненным в виде держателя заготовок вторым электродом. Через первый электрод подают дуговой разряд с импульсным током дугового разряда, посредством которого с мишени испаряется материал, который, по меньшей мере, частично и периодически осаждается на заготовках. Второй электрод вместе с заготовками образует электрод смещения. На электрод смещения посредством электропитания подают напряжение смещения, при этом напряжение смещения подают в согласовании с током дугового разряда с обеспечением ионной бомбардировки поверхности подложки при достижении равновесного состояния между образованием на поверхности слоя и его удалением. Способ позволяет осуществлять различные виды обработки поверхностей заготовок при обеспечении нулевого прироста слоя на поверхности от испаряющейся мишени. 14 з.п. ф-лы, 10 ил.

 


Наверх