Патенты автора Решетников Геннадий Иванович (RU)
Изобретение относится к области оптико-электронного приборостроения и предназначено для нанесения фотолитографического рисунка на рабочую поверхность цилиндрических диафрагм оптико-механического блока в сканирующем устройстве для выработки кодового сигнала управления ориентацией по Солнцу космических аппаратов. Способ и устройство для реализации способа включает этапы нанесения хромового покрытия на подложку, имеющую заданный радиус кривизны R, из оптического стекла вакуумным напылением, нанесение капельным способом слоя позитивного фоторезиста на рабочую поверхность вращающейся подложки, размещенной в центрифуге, сушку и термообработку до полной полимеризации слоя фоторезиста и контактное экспонирование изображения с фотошаблона путем совмещения и фиксации его с рабочей поверхностью полученной заготовки и последующую засветку слоя фоторезиста от источника УФ-излучения.
Технический результат - обеспечение возможности равномерного нанесения слоя фоторезиста на рабочую поверхность подложки из оптического стекла с заданным радиусом кривизны, обеспечение точного совмещения и фиксации рабочей поверхности, полученной после нанесения фоторезиста заготовки оптической детали с последующей равномерной засветкой слоя фоторезиста источником УФ-излучения. 2 н. и 7 з.п. ф-лы, 6 ил.
