Патенты автора ВОЙТТЕННЕК Франциска (DE)
УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ОБРАБОТКИ МАТЕРИАЛА ПРИ ПОМОЩИ СФОКУСИРОВАННОГО ЭЛЕКТРОМАГНИТНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ // 2551921
Группа изобретений относится к области медицины. Устройство для обработки материала посредством сфокусированного электромагнитного излучения содержит: источник электромагнитного излучения; оптические компоненты, направляющие и фокусирующие излучение на или в материал; средство для генерирования паттерна в пучке электромагнитного излучения; частично отражающую поверхность, установленную на траектории пучка перед фокусом сфокусированного излучения с возможностью проецирования на нее указанного паттерна посредством по меньшей мере части указанных оптических компонентов; по меньшей мере один детектор, выполненный с возможностью приема отраженного, посредством указанной поверхности, изображения паттерна и генерирования электрических сигналов, соответствующих указанному изображению, которое содержит информацию о положении фокуса; компьютер, выполненный с возможностью приема указанных электрических сигналов и запрограммированный на обработку указанного изображения и для генерирования электрического сигнала, зависящего от фокального положения. При этом компьютер выполнен с возможностью определения, в процессе генерирования указанного электрического сигнала, размеров изображения как функции изменения расходимости. Кроме того, устройство дополнительно содержит элемент регулировки расходимости, установленный на траектории пучка и выполненный с возможностью приема указанного электрического сигнала, генерируемого компьютером, и изменения расходимости электромагнитного излучения в соответствии с указанным сигналом. Применение данной группы изобретений обеспечит точную настройку глубины разреза. 2 н. и 9 з.п. ф-лы, 3 ил.
Группа изобретений относится к медицине. Лазерное устройство для обработки материала содержит лазер для формирования пучка импульсного лазерного излучения, измерительные средства для получения измеренных значений мощности основной гармоники лазерного пучка и мощности по меньшей мере одной высшей гармоники, полученной посредством умножения частоты лазерного пучка, и блок оценки, подключенный к измерительным средствам и выполненный с возможностью оценивать качество лазерного пучка, основываясь на измеренной мощности основной гармоники, на измеренной мощности высшей гармоники и на установленной мощности излучения лазера. Вычисление отношения измеренной мощности высшей гармоники к измеренной мощности основной гармоники позволяет оценить текущую эффективность преобразования частоты. Эта эффективность преобразования служит мерой качества волнового фронта и длительности импульсов, образующих лазерный пучок. 2 н. и 12 з.п. ф-лы, 1 ил.
