Патенты автора АСАИ Масато (JP)

Изобретение относится к области получения слоистых материалов, используемых в тонкопленочных приборах и устройствах. Изобретение предлагает выравнивающую пленку, включающую выравнивающий слой, содержащий связующую полимерную смолу и неорганический наполнитель в качестве компонентов, по меньшей мере на одной стороне прозрачного полимерного основания. При этом количество посторонних частиц со средним диаметром от 20 мкм до 100 мкм на поверхности выравнивающего слоя не превышает 5/м2. Изобретение позволяет создать выравнивающую пленку с уменьшенным числом дефектов, которая при использовании для подложки в тонкопленочном транзисторе уменьшает образование линейных дефектов даже в случае изготовления тонкопленочного транзистора непосредственно на поверхности пленки. 2 н. и 1 з.п. ф-лы, 1 табл., 3 пр., 2 ил.

 


Наверх