Патенты автора ВЕРГЕР Нильс (NL)
Изобретение относится к области литографии и касается системы для определения положения подложки в системе литографии. Система содержит оптическую колонну, чувствительный элемент оптического совмещения и подложку, содержащую оптическую отметку положения. Чувствительный элемент выполнен с возможностью испускания луча света на подложку и измерения профиля интенсивности луча отраженного света нулевого порядка. Оптическая отметка содержит главную область, содержащую множество пар областей, причем пары областей равны друг другу. Каждая пара областей содержит первую и вторую области, имеющие различные коэффициенты отражения. Ширина первой и второй областей и размер пятна света находятся в диапазоне от 1 мкм до 2 мкм, Первая область содержит структуры, субволновые по сравнению с длиной волны испущенного луча света. Субволновые структуры содержат множество регулярных сегментов, сформированных с помощью сегментации первой области вдоль первого направления и/или второго направления, причем второе направление перпендикулярно первому направлению. Технический результат заключается в повышении точности определения положения подложки. 2 н. и 16 з.п. ф-лы, 20 ил.
Изобретение относится к области литографии и касается системы литографии. Система литографии включает в себя основание, установленную на основании оптическую колонну для проецирования шаблона на мишень, подвижный держатель мишени, модуль дифференциального интерферометра, предназначенный для измерения смещения держателя мишени. Держатель мишени и оптическая колонна снабжены соответственно первым и вторым зеркалами. Модуль дифференциального интерферометра содержит источник луча, выполненный с возможностью обеспечения трех когерентных лучей, блок делителя луча, объединитель лучей и приемники луча. Блок делителя содержит один делитель луча и разделяет три луча на три пары лучей, состоящие из измерительного луча и связанного с ним эталонного луча. Измерительные лучи направляются на первое зеркало, а эталонные лучи направляются на второе зеркало. Объединитель лучей предназначен для объединения трех отраженных измерительных лучей со связанными с ними тремя отраженными эталонными лучами в три объединенных луча и проецирования объединенных лучей на соответствующие приемники луча. Технический результат заключается в упрощении конструкции системы. 3 н. и 17 з.п. ф-лы, 12 ил.
ЕМКОСТНАЯ ИЗМЕРИТЕЛЬНАЯ СИСТЕМА // 2573447
Изобретение относится к измерительной технике, в частности к емкостному датчику для измерения расстояния до мишени в литографическом устройстве. Сущность: емкостная измерительная система содержит датчик (30), имеющий тонкопленочную структуру, имеющую первый изолирующий слой (34) и первую проводящую пленку, содержащую измерительный электрод (31), сформированный на первой поверхности первого изолирующего слоя (34), и вторую проводящую пленку, содержащую задний охранный электрод (35). Задний охранный электрод сформирован в одной плоскости, содержит периферийную часть в той же самой плоскости и расположен на второй поверхности первого изолирующего слоя (34) и первой поверхности второго изолирующего слоя (43) или защитного слоя (38). Периферийная часть заднего охранного электрода выступает за пределы измерительного электрода (31), образуя боковой охранный электрод, который по существу или полностью окружает измерительный электрод. Технический результат: упрощение изготовления и обеспечение точности. 2 н. и 12 з.п. ф-лы, 32 ил.
Изобретение относится к измерительной технике, а именно к емкостному датчику для измерения расстояния, в частности, до мишени в литографическом устройстве. Сущность: емкостная измерительная система содержит два или более емкостных датчиков (30a, 30b), один или более источников (306a, 306b) питания переменного тока для подачи питания на емкостные датчики и схему обработки сигналов для обработки сигналов от датчиков. Датчики скомпонованы попарно. Один или более источников питания переменного тока выполнены с возможностью запитывать первый датчик из пары датчиков переменным током (307) или напряжением со сдвигом фаз 180 градусов относительно тока или напряжения для второго датчика из пары датчиков. Схема обработки сигналов выполнена с возможностью обработки принятых выходных сигналов для генерации единого измеренного значения расстояния, соответствующего среднему расстоянию между измерительным блоком и мишенью. Схема обработки сигналов выполнена с возможностью генерации результата дифференциального измерения путем суммирования выходных сигналов от измерительного блока в течение первого полупериода питающего сигнала и в течение второго полупериода питающего сигнала по отдельности и вычитания просуммированных значений. 14 з.п. ф-лы, 32 ил.
ИНТЕГРАЛЬНАЯ СИСТЕМА ДАТЧИКОВ // 2532575
Изобретение предназначено для использования в производстве полупроводниковых приборов, в частности для экспонирования рисунков на полупроводниковые пластины и иные мишени. Литографическая машина содержит систему (132) проекционного объектива для фокусировки одного или более экспонирующих пучков на мишень, подвижный стол (134) для транспортировки мишени (9), емкостную измерительную систему (300) для проведения измерений, связанных с расстоянием между последним фокусирующим элементом системы (104) проекционного объектива и поверхностью мишени (9), и блок управления (400) для управления перемещением подвижного стола (134) для регулировки положения мишени (9), по меньшей мере частично, на основании сигнала из емкостной измерительной системы. Емкостная измерительная система (300) содержит множество емкостных датчиков (30), каждый из которых содержит тонкопленочную структуру. Емкостные датчики и последний фокусирующий элемент (104) системы проекционного объектива установлены непосредственно на общем основании (112), и датчики расположены в непосредственной близости к краю последнего фокусирующего элемента системы проекционного объектива. Предложенное техническое решение обеспечивает повышение разрешающей способности и точности литографической машины. 15 з.п. ф-лы, 32 ил.
