Патенты автора ТАКАХАСИ Хиоу (JP)
Изобретение относится к светочувствительным негативным полимерным композициям, подходящим для образования тонкой структуры фотолитографическим способом. Предложена светочувствительная негативная полимерная композиция, содержащая (a) содержащее эпоксидные группы соединение, (b) первую ониевую соль, содержащую структуру катионной части, представленную формулой (b1), и структуру анионной части, представленную формулой (b2), и (c) вторую ониевую соль, содержащую структуру катионной части, представленную формулой (c1), и структуру анионной части, представленную формулой (c2). Предложены также полученная из указанной композиции тонкая структура и способ ее получения, а также жидкостная эжекторная головка, в которой использована упомянутая тонкая структура. Технический результат - предложенная композиция обеспечивает меньшую изменчивость и превосходную воспроизводимость трехмерной формы при использовании фотолитографического процесса. 4 н. и 7 з.п. ф-лы, 5 ил., 1 табл., 12 пр.
