Патенты автора ВЕРМЕР,Адрианус Йоханнес Петрус Мариа (NL)
УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ОСАЖДЕНИЯ АТОМНЫХ СЛОЕВ // 2555282
Изобретение относится к устройству и способу осаждения атомных слоев на поверхность листообразной подложки. Устройство содержит инжекторную головку, включающую осадительное пространство, оснащенную впуском для прекурсора и выпуском для прекурсора. Указанные впуск и выпуск предназначены для создания потока газообразного прекурсора от впуска для прекурсора через осадительное пространство к выпуску для прекурсора. Осадительное пространство локализовано инжекторной головкой и поверхностью подложки. Инжектор опорного газа предназначен для нагнетания опорного газа между инжекторной головкой и поверхностью подложки. Опорный газ создает газовую подушку. Конвейерная система обеспечивает относительное перемещение подложки и инжекторной головки вдоль плоскости подложки для формирования плоскости транспортирования, вдоль которой перемещают подложку. Напротив инжекторной головки размещают опорную деталь. Опорная деталь скомпонована для создания газовой подушки с профилем давления, которая уравновешивает газовую подушку инжекторной головки в плоскости транспортирования так, что подложка поддерживается без опоры указанной газовой подушкой с профилем давления между инжекторной головкой и опорной деталью. 2 н. и 13 з.п. ф-лы, 10 ил.
УСТРОЙСТВО И СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ АТОМНОГО СЛОЯ // 2541232
Изобретение относится к устройству и способу для нанесения атомного слоя на поверхность подложки. Упомянутое устройство содержит инжекторную головку для газообразного прекурсора с выступающими частями, содержащую систему подачи газообразного прекурсора, причем упомянутая инжекторная головка выполнена с возможностью инжекции газообразного прекурсора из системы подачи газообразного прекурсора в пространство нанесения для контакта с поверхностью подложки. Пространство нанесения ограничено упомянутой инжекторной головкой и поверхностью подложки. Упомянутое устройство выполнено с возможностью обеспечения перемещения упомянутой инжекторной головки и подложки относительно друг друга в плоскости поверхности подложки. Упомянутая инжекторная головка содержит инжектор несущего газа для инжекции несущего газа между упомянутой инжекторной головкой и поверхностью подложки и/или между упомянутой инжекторной головкой и поверхностью держателя подложки, который механически прикреплен к подложке. Инжектор несущего газа отделен от системы подачи прекурсора для получения несущего газ слоя, сформированного несущим газом, между выступающими частями упомянутой инжекторной головки и подложкой и/или между выступающими частями упомянутой инжекторной головки и поверхностью держателя подложки, и обеспечивающего образование удерживающей структуры для удерживания введенного газообразного прекурсора в пространстве нанесения, прилегающем к поверхности подложки. Устройство дополнительно выполнено с возможностью обеспечения относительного перемещения инжекторной головки для газообразного прекурсора и подложки в плоскости вне поверхности подложки в зависимости от давления несущего газа между поверхностью подложки и инжекторной головкой для газообразного прекурсора и/или между инжекторной головкой для газообразного прекурсора и держателем подложки. Обеспечивается улучшенное использование газообразного прекурсора для осаждения атомного слоя. 2 н. и 13 з.п. ф-лы, 10 ил.
