Патенты автора ПЕКАРСКИ Павел (NL)
Изобретение относится к области нагревательных устройств и может быть использовано для регулирования температуры обработки полупроводниковой пластины в процессе выращивания полупроводникового слоя. Данное изобретение описывает нагревательную систему (100) и соответствующий способ нагревания нагреваемой поверхности (180) объекта (150, 950) до температуры обработки, составляющей по меньшей мере 100°C. Причем нагревательная система (100) содержит полупроводниковые источники (115) света и выполнена с возможностью нагревания элемента площади нагреваемой поверхности (180) с помощью по меньшей мере 50-ти полупроводниковых источников (115) света одновременно. Нагревательная система (100) может быть частью реактора для обработки полупроводниковых структур. Свет, излучаемый посредством полупроводниковых источников (115) света, перекрывается на нагреваемой поверхности (180). Отличия характеристики одного отдельного полупроводникового источника (115) света могут быть размыты на нагреваемой поверхности (180) таким образом, чтобы могло быть обеспечено однородное распределение температуры по поверхности обработки, например, полупроводниковой пластины. Технический результат – повышение однородности распределения температуры по поверхности обработки. 3 н. и 10 з.п. ф-лы, 15 ил.
Группа изобретений относится к медицинской технике, а именно к средствам профилирования глубины поверхности целевого объекта. Портативное устройство содержит первый источник света, содержащий двумерную матрицу лазеров, имеющий угол раскрыва θр между примерно 5 и примерно 45 градусами, оптическое устройство, имеющее фокусное расстояние порядка нескольких миллиметров, для проецирования двумерного многострочного шаблона подсветки на участок поверхности целевого объекта, причем шаблон подсветки искажается профилем глубины поверхности целевого объекта, устройство захвата изображения, ориентированное под углом θd между примерно 25 и примерно 45 градусами относительно первого источника света, причем угол θd зависит от диапазона глубины и участка поверхности целевого объекта, процессор, выполненный с возможностью обработки захваченного изображения, чтобы восстанавливать профиль глубины двумерного участка поверхности целевого объекта из изображения, захваченного устройством захвата изображения, и средство для определения расстояния между устройством и поверхностью целевого объекта, при этом двумерная матрица содержит множество строк, причем по меньшей мере одна строка смещена вбок по отношению к смежной строке. Способ профилирования глубины поверхности осуществляется посредством устройства с использованием считываемого компьютером носителя данных. Использование изобретений позволяет расширить арсенал средств профилирования глубины поверхности. 3 н. и 10 з.п. ф-лы, 7 ил.
ОСВЕТИТЕЛЬНОЕ УСТРОЙСТВО // 2632254
Осветительное устройство содержит массив источников света, излучающих конусы света с краями, которые пересекаются в плоскости пересечения, и линзовый блок для гомогенизации распределения интенсивности в дальней зоне. Массив источников света и линзовый блок расположены так, что либо конусы излучения пересекают линзовый блок и расстояние между массивом источников света и линзовым блоком отклоняется от суммы или разности между фокусным расстоянием линзового блока и расстоянием между плоскостью пересечения и массивом (2) источников (3) света на 20 процентов или меньше. Технический результат заключается в обеспечении однородности распределение интенсивности в дальней зоне. 3 н. и 10 з.п. ф-лы, 6 ил.
Группа изобретений относится к способу нагрева преформы, к управляющему устройству (7) для управления блоком (9) генерации лазерного излучения системы (10) нагрева преформ и системе (10) нагрева преформ. Способ нагрева преформы (1) характеризуется радиусом (R), толщиной (t) материала и спектром поглощения материала. Он содержит следующие этапы: выбирают, в зависимости от желательного температурного профиля, желательный эффективный коэффициент поглощения для преформы (1) на основании радиуса (R) преформы и толщины материала (t) и генерируют пучок (L) лазерного излучения. Пучок (L) лазерного излучения содержит излучение со спектром длин волн, составленным на основании коэффициентов поглощения в спектре поглощения так, чтобы он соответствовал эффективному коэффициенту поглощения. Направляют пучок (L) лазерного излучения на заготовку (1) для нагрева преформы (1). Управляющее устройство (7) для управления блоком (9) генерации лазерного излучения системы (10) нагрева преформ содержит входной интерфейс для получения геометрических параметров преформы, устройство выбора и модуль составления параметров лазера. Система (10) нагрева преформ включает управляющее устройство (7), блок (9) генерации лазерного излучения и блок (76) формирования пучка. Технический результат, достигаемый при использовании способа и устройств по изобретениям, заключается в поглощении энергии пучка лазерного излучения во всем материале преформы более равномерно. 3 н. и 9 з.п. ф-лы, 12 ил.
