Патенты автора Крутов Александр Владимирович (RU)
ТЕРМОСТОЙКИЙ ФОТОРЕЗИСТ // 2549532
Изобретение относится к термостойкому фоторезисту, содержащему реакционный раствор поли(о-гидроксиамида) - продукта поликонденсации дихлорида изофталевой кислоты и 3,3'-дигидрокси-4,4'-диаминодифенилметана или смеси 3,3'-дигидрокси-4,4'-диаминодифенилметана и бис -(3-аминопропил)диметил-силоксана, взятых в соотношении от 9:1 до 1:9 мол. %, β,β-бис-нафтохинондиазидо - (1,2)-5-сульфоэфир -(4-гидроксифенил)пропан и амидный растворитель. При этом он в своем составе дополнительно содержит нигрозиновый черный краситель, и для получения термостойкого фоторезиста выбирают следующее соотношение указанных компонентов, мас.%: реакционный раствор поли(о-гидроксиамида) 80-90; β,β-бис-нафтохинондиазидо-(1,2)-5-сульфоэфир-(4-гидроксифенил)пропан 3.2-4.0; нигрозиновый черный краситель 0.6-1.4; амидный растворитель - остальное. Техническим результатом предлагаемого изобретения является создание термостойкого фоторезиста для получения непрозрачных высокотермостойких, адгезионно-прочных микрорельефных покрытий, не пропускающих световое излучение, что повышает надежность работы микросхемы и увеличивает срок службы прибора. 6 пр.
