Патенты автора ФУКУДА Коити (JP)
Изобретение относится к устройству съемки изображений для одновременной реализации автоматической фокусировки (AF) по разности фаз и AF по контрастности. Устройство определяет величину сдвига сигнала изображения, соответствующего оценочной позиции фокуса для каждой области выходного зрачка. Затем устройство генерирует изображение, соответствующее позиции на плоскости изображения, путем выполнения обработки арифметической операции на основе определенной величины сдвига для сигнала изображения. Далее устройство вычисляет оценочное значение контрастности сгенерированного изображения и вычисляет оценочное значение корреляции между изображениями, соответствующими разным областям выходного зрачка в сгенерированном изображении. Технический результат - повышение быстродействия и точности фокусировки. 7 н. и 7 з.п. ф-лы, 18 ил.
Изобретение относится к устройству автоматической фокусировки и способу управления им на основании преобразованного фотоэлектрическим способом сигнала. Устройство одновременно реализует фазоразностную и контрастную автофокусировку и определяет дальность на основании отношения соответствия между каждым пикселем элемента съемки изображения, который ограничивается средством деления зрачка, предусматривающим ограничение излучения от оптического изображения объекта, поступающего на каждый пиксель элемента съемки изображения, излучением от конкретного участка выходного зрачка фотографического объектива, и конкретным участком выходного зрачка фотографического объектива, и определяет оцениваемое значение фокуса объекта в соответствии с определенным диапазоном по контрастному положению фокуса или корреляционному положению фокуса. Технический результат - повышение скорости и точности фокусировки. 5 н. и 12 з.п. ф-лы, 19 ил.
Изобретение относится к датчику изображения и устройству формирования изображения. В датчике изображения пиксель для фокусировки имеет структуру с экранирующим свет слоем для выполнения разделения зрачка. Экранирующий слой расположен между микролинзой и блоком фотоэлектрического преобразования. Положение фокуса микролинзы позиционировано дальше на стороне микролинзы, чем экранирующий свет слой. Расстояние от положения фокуса микролинзы до экранирующего свет слоя больше 0 и меньше nFΔ, где n - показатель преломления в положении фокуса микролинзы, F - величина апертуры микролинзы и Δ - дифракционный предел микролинзы. Технический результат - обеспечение возможности подавления изменения в распределении интенсивности зрачка пикселя для фокусировки, вызванного позиционным производственным допуском на компоненты. 4 н.п. ф-лы, 22 ил.
