Патенты автора Архипов Вячеслав Евгеньевич (RU)
Изобретение относится к технологии химического осаждения из газовой фазы CVD и может быть использовано для синтеза углеродных наноматериалов, таких как пленки графена, многослойного графена, углеродных нанотрубок. Система химического осаждения из газовой фазы для роста графена содержит трубчатый кварцевый реактор, трубчатую печь, передвигающуюся вдоль оси реактора с помощью подложки, подложкодержатель, систему напуска и регулировки газов, блок регулятора температуры и систему вакуумирования. Кварцевый реактор и трубчатая печь установлены на выдвижной платформе, оба конца реактора соединены с буферной емкостью, причем один конец реактора соединен с буферной емкостью последовательно через соединительный разъем и через отсек устройства принудительной циркуляции газового потока. Соединительный разъем снабжен подложкодержателем со встроенной термопарой. В частных случаях осуществления изобретения соединительный разъем установлен стационарно, а один из концов реактора выполнен в виде капилляра. Обеспечивается реализация замкнутого контура с принудительной циркуляцией газа, что позволяет уменьшить расход газов, требуемых для роста графена и других углеродных наноматериалов, а также сократить время работы системы наполнения и роторного насоса, а также упростить технологический процесс осаждения. 2 з.п. ф-лы, 1 ил., 2 пр.
Изобретение относится к технологиям получения массивов углеродных нанотрубок на поверхности подложки. В реакционной камере формируют поток рабочего газа, содержащего несущий газ, газообразный углеводород и предшественник катализатора для синтеза углеродных нанотрубок. Поток рабочего газа направляют на поверхность подложки со скоростью 100-1000 м/с. Вдоль потока рабочего газа направляют инфракрасное импульсное лазерное излучение с частотой импульсов 5-100 кГц и энергией импульсов 0,05-0,5 Дж для его активации и локального нагрева поверхности подложки до 600-1000°C. Упомянутую реакционную камеру перемещают над поверхностью подложки. В частном случае осуществления изобретения на поверхность подложки дополнительно направляют поток инертного газа, экранирующий зону синтеза углеродных нанотрубок от воздуха, при его давлении, превышающем давление потока рабочего газа. Обеспечивается получение массивов ориентированных углеродных нанотрубок на подложках, имеющих поверхности большой площади - до нескольких квадратных метров. 1 з.п. ф-лы, 4 ил., 1 пр.
