Патенты автора ХАНФАУГ Рабах (NL)
Система литографии элементарными пучками заряженных частиц для переноса шаблона на поверхность мишени содержит датчик для определения одной или нескольких характеристик одного или нескольких элементарных пучков заряженных частиц. Датчик содержит элемент (1) преобразователя для приема заряженных частиц (22) и генерации в ответ фотонов. Этот элемент преобразователя содержит поверхность для приема одного или нескольких элементарных пучков заряженных частиц, причем эта поверхность снабжена одной или несколькими ячейками для оценивания одного или нескольких индивидуальных элементарных пучков. Каждая ячейка содержит заданный шаблон (18) блокировки из одной или нескольких структур блокировки заряженных частиц, образующих множество режущих краев в переходах между областями блокировки и областями без блокировки вдоль заданной траектории сканирования элементарных пучков по поверхности элемента преобразователя. Поверхность элемента преобразователя покрыта слоем покрытия (20), по существу проницаемым для упомянутых заряженных частиц и по существу непроницаемым для внешнего света. Электрически проводящий слой (21) расположен между слоем покрытия и структурами блокировки. Технический результат - повышение точности датчика, измеряющего свойства элементарных пучков. 4 н. и 22 з.п. ф-лы, 3 ил.
