Патенты автора ВАН КЕРВИНК Марсел Николас Якобус (NL)
Изобретение относится к области литографии и касается литографической системы и способа хранения позиционных данных мишени. Литографическая система включает в себя систему управления посредством обратной связи, содержащую привод для перемещения мишени, измерительную систему для измерения положения мишени и блок управления приводом. Кроме того, литографическая система включает в себя систему хранения измеренных положений, содержащую приемный буфер и блок хранения. Система управления также содержит однонаправленное соединение для передачи измеренных положений в систему хранения и выполнена с возможностью непрерывной работы независимо от системы хранения. Максимальная задержка между измерением и управлением приводом по меньшей мере на порядок величины меньше средней задержки между приемом измеренных положений в приемном буфере и сохранением измеренных положений в блоке хранения. Технический результат заключается в оптимизации способа получения и хранения позиционных данных. 2 н. и 25 з.п. ф-лы., 4 ил.
Изобретение относится к кластерной литографической системе обработки подложки. Система содержит один или более литографических элементов, каждый литографический элемент выполнен с возможностью независимого экспонирования подложек в соответствии с данными шаблона. Каждый литографический элемент содержит множество подсистем литографии, управляющую сеть, выполненную с возможностью передачи управляющей информации между подсистемами литографии, и по меньшей мере один блок управления элементом, причем блок управления элементом выполнен с возможностью передачи команд в подсистемы литографии, и подсистемы литографии выполнены с возможностью передачи ответов в блок управления элементом. Каждый литографический элемент также содержит средство внешней связи кластера для взаимодействия с оператором или основной системой, причем средство внешней связи выполнено с возможностью выдачи управляющей информации по меньшей мере одному блоку управления элементом для управления работой одной или более подсистем литографии для экспонирования одной или более полупроводниковых пластин. Средство внешней связи выполнено с возможностью выдачи программы процесса блоку управления элементом, причем программа процесса содержит набор заданных команд и ассоциированных параметров, причем каждая команда соответствует заданному действию или последовательности действий, подлежащих выполнению одной или более из подсистем литографии, и параметры дополнительно определяют, как следует выполнить действие или последовательность действий. Технический результат - упрощение системы управления системой обработки. 14 з.п. ф-лы, 13 ил.
