Патенты автора РАЛЬЧЕНКО, Виктор Г. (RU)
Изобретение относится к подложке для алмазного покрытия, наносимого методом химического осаждения из паровой фазы (CVD), способу ее формирования и электродному стержню для формирования подложки упомянутым способом. Подложка содержит основу из карбидного твердого сплава или стали и слой, который содержит алмазные частицы в качестве кристалла-затравки в матрице, которые осаждаются соединенными с материалом матрицы на поверхности указанной основы, в которой указанные затравочные алмазные частицы имеют средний размер частиц 1 мкм или мельче. Указанная матрица содержит первый элемент, выбранный из первой группы, состоящей из Si, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Та, Cr, Mo и W, и/или первое соединение указанного первого элемента и неметаллического вещества, выбранного из бора, углерода и азота, и выполнена с возможностью удерживания алмазных частиц, распределенных в ней. Образуется соединительная зона в результате диффузии атомов указанного первого элемента и указанного карбидного твердого сплава или стали и распространения через материал указанной матрицы и указанной основы. Электродный стержень выполнен прессованием смешанного порошка, полученного смешиванием порошка по меньшей мере одного первого элемента, выбранного из первой группы, состоящей из Si, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Та, Cr, Mo и W, и/или порошка интерметаллического соединения указанного первого элемента и второго элемента, выбранного из группы, состоящей из Al, Si и Ni, и порошка первого соединения указанного первого элемента и неметаллического вещества, выбранного из бора, углерода и азота. Обеспечивается технология для получения подложки для осаждения алмазного слоя на инструментальные материалы, например из вольфрамкарбидного сплава, и конструкционные материалы, содержащие металлы группы железа, без ухудшения свойств материала основы. 3 н. и 10 з.п. ф-лы, ил.,11 пр.
