Патенты автора Лютак Дмитрий Игнатьевич (RU)

Изобретение относится к терморегулирующему покрытию для радиационной поверхности космического объекта и к способу формирования этого покрытия. Способ заключается в том, что предварительно на радиационную поверхность наносят последовательно слой грунтовки ВЛ-02, слой эмали АК-512 белая с вязкостью в состоянии поставки по ВЗ-4 от 60 до 85 с и массовой долей нелетучих веществ от 54 до 58% толщиной от 80 до 100 мкм и создают на ее поверхности сплошную сетку рисок глубиной от 15 до 45 мкм. После этого распыляют композицию из силикатного связующего, соли щелочноземельного элемента BaSO4, добавки алюмината бария или лития, дистиллированной воды. Технический результат изобретения - формирование терморегулирующего покрытия с низким значением отношения коэффициента поглощения солнечной радиации к степени черноты при длительной эксплуатации, обеспечивающее высокую адгезию при нанесении терморегулирующего покрытия на тонкостенные радиационные поверхности. 2 н.п. ф-лы, 1 ил.
Изобретение может быть использовано для герметизации сквозного дефекта в оболочке пилотируемого космического аппарата. Формирование пробки производят путем пропитки безусадочной герметизирующей композицией центральной части салфетки из прореженного тканого материала с высокой воздухопроницаемостью и гигроскопичностью с формированием пятна, идентичного размеру и глубине сквозного дефекта. Удерживая салфетку за ее периферийную часть, вводят пропитанную безусадочной герметизирующей композицией часть салфетки в сквозной дефект на всю его глубину. Контролируют при этом выход салфетки за внешнюю часть оболочки пилотируемого космического аппарата. Подают безусадочную герметизирующую композицию в течение времени ее жизнеспособности в сквозной дефект с помощью истекающего в вакуум воздуха до заполнения дефекта с избытком. Затем удаляют избыток салфетки и контролируют герметичность образованной пробки ультразвуковым течеискателем. На сформированную пробку и зачищенную поверхность вокруг нее наносят один или более слоев безусадочной герметизирующей композиции через заданный интервал времени. Технический результат состоит в простой и надежной герметизации сквозных дефектов размером до 10 мм.

Изобретение относится к тепловой защите объектов космической и/или криогенной техники, а также может быть использовано в других отраслях народного хозяйства. Материал состоит из чередующихся слоев экранов металлизированной теплоотражающей перфорированной пленки и сепарационной прокладки. В качестве прокладки использована разреженная беспылевая полимерная ткань. Указанные слои сварены по краям перфорационных отверстий диаметром от 1 до 8 мм, при шаге перфорации от 10 до 50 мм. Способ изготовления данного материала состоит в том, что указанные чередующиеся слои экранов и прокладочной ткани сваривают одновременно по краям всех перфорационных отверстий. Техническим результатом является уменьшение времени дегазации материала за счет фиксированного прочного бессдвигового соединения металлизированных экранов с прокладкой, при одновременной высокой механической прочности и низкой теплопроводности материала. 2 н.п. ф-лы, 5 ил.

Изобретение относится к терморегулирующим покрытиям и способу их формирования на внешних поверхностях космических аппаратов с применением метода газотермического напыления. Комбинированное терморегулирующее покрытие содержит нанесенный на подложку подслой из металлического материала, слой керамического материала класса «солнечные отражатели», несплошной слой материала класса «истинные отражатели», нанесенный дискретными каплями на поверхность слоя керамического материала. Способ формирования комбинированного терморегулирующего покрытия включает нанесение подслоя из металлического материала на подложку методом газотермического напыления, слоя керамического материала класса «солнечные отражатели» и несплошного слоя материала класса «истинные отражатели». Техническим результатом изобретения является обеспечение теплового барьера, повышение поверхностной твёрдости и обеспечение повышенной стойкости терморегулирующего покрытия. 2 н.п. ф-лы, 4 ил.

 


Наверх