Патенты автора СОЙНИНЕН, Пекка Й. (FI)
Изобретение относится к реакторам для осаждения материалов на поверхности при последовательном использовании самоограниченных поверхностных реакций. Способ атомно-слоевого осаждения (АСО) покрытия на поверхность частиц дисперсного материала включает установку картриджа для атомно-слоевого осаждения (картриджа АСО) в приемник реактора АСО посредством осуществления быстроразъемного соединения, причем картридж АСО сконфигурирован с возможностью выполнения функции реакционной камеры АСО, обработку поверхности дисперсного материала в картридже АСО путем обработки дисперсного материала в расположенных одно над другим отделениях картриджа, каждое из которых отделено от смежного отделения пластинчатым фильтром. Реактор АСО покрытия на поверхность частиц дисперсного материала содержит приемник, сконфигурированный для установки в реактор АСО, посредством осуществления быстроразъемного соединения картриджа АСО, сконфигурированного с возможностью выполнения функции реакционной камеры АСО, и линию или линии подачи, сконфигурированную или сконфигурированные с возможностью подачи в картридж АСО паров прекурсоров для осуществления обработки поверхности дисперсного материала в картридже АСО. Картридж АСО представляет собой съемный картридж, который посредством приемника с помощью быстроразъемного соединения прикреплен к корпусу реактора АСО, при этом обеспечивается возможность обработки поверхности дисперсного материала внутри картриджа. Указанный картридж содержит пластинчатые фильтры, установленные друг над другом, с образованием между ними отделений для нанесения покрытия на дисперсный материал. Аппарат для АСО покрытия на поверхность частиц дисперсного материала содержит упомянутые реактор АСО и картридж АСО. Обеспечивается тонкое покрытие на мелких частицах, позволяющее изменить их поверхностные свойства при сохранении их объемных свойств. 4 н. и 13 з.п. ф-лы, 12 ил.
РЕАКТОР АТОМНО-СЛОЕВОГО ОСАЖДЕНИЯ ДЛЯ ОБРАБОТКИ ПАРТИИ ПОДЛОЖЕК И СПОСОБ ОБРАБОТКИ ПАРТИИ ПОДЛОЖЕК // 2586956
Изобретение относится к способу атомно-слоевого осаждения пленки на подложку и к устройству для указанного осаждения. Обеспечивают модуль реакционной камеры реактора атомно-слоевого осаждения для обработки партии подложек, перемещаемых на тележке, методом атомно-слоевого осаждения, загрузку тележки, перемещающей партию подложек, перед обработкой в модуль реакционной камеры по пути, отличному от пути, по которому партию подложек разгружают после обработки, разделение партии подложек на подпартии подложек и одновременную обработку всех подпартий в модуле реакционной камеры. Для каждой подпартии предусмотрены собственное впускное отверстие для потока газа и собственное выпускное отверстие для потока газа. Указанное устройство содержит модуль реакционной камеры реактора атомно-слоевого осаждения, выполненный с возможностью обработки партии подложек методом атомно-слоевого осаждения. Упомянутый модуль реакционной камеры выполнен с возможностью разделения партии подложек на подпартии подложек. Для каждой подпартии предусмотрены собственное впускное отверстие для потока газа и собственное выпускное отверстие для потока газа и устройство для загрузки и разгрузки, обеспечивающее загрузку партии подложек перед обработкой в модуль реакционной камеры по пути, отличному от пути, по которому партию подложек разгружают после обработки. Обеспечивается повышенная производительность атомно-слоевого осаждения. 2 н. и 16 з.п. ф-лы, 14 ил.
