Патенты автора Сидоров Денис Юрьевич (RU)
Изобретение относится к микроэлектронике, в частности к установке для напыления в вакууме топологического тонкоплёночного рисунка гибридной микросхемы на подложку. Технический результат - повышение производительности установки и повышение качества напыляемого рисунка. Установка содержит первую вакуумную камеру с технологической дверью и с первым источником металла и первым маскодержателем с первой маской и вторую вакуумную камеру со второй технологической дверью, вторым источником металла и вторым маскодержателем со второй маской, отличной от первой. Транспортная вакуумная камера установки сообщется с вакуумными камерами через соответствующие первый и второй вакуумные затворы. Манипулятор установлен в транспортной камере с возможностью обеспечения захвата и перемещения подложкодержателя с подложкой между камерами и установки его на маскодержатель с маской. 3 ил.
СПОСОБ НАПЫЛЕНИЯ В ВАКУУМЕ ТОПОЛОГИЧЕСКОГО ТОНКОПЛЁНОЧНОГО РИСУНКА ГИБРИДНОЙ МИКРОСХЕМЫ НА ПОДЛОЖКУ // 2586937
Изобретение относится к способу напыления в вакууме топологического тонкопленочного рисунка гибридной микросхемы на подложку и может быть использовано в микроэлектронике. Подложку устанавливают на первую маску в первой рабочей зоне. Создают и поддерживают необходимый вакуум, по меньшей мере, в двух рабочих камерах и в сообщающейся с ними через соответствующие вакуумные затворы транспортной зоне. После напыления подложки в первой рабочей камере, с сохранением вакуума, посредством манипулятора отделяют подложку от первой маски. Перемещают подложку из первой рабочей камеры через транспортную зону во вторую рабочую камеру. Устанавливают подложку на вторую маску. Затем производят второе напыление подложки через вторую маску. В результате получают топологический тонкопленочный рисунок высокого качества. 3 ил.
