Патенты автора ЭИТЗМАН Филип Д. (US)
Предлагается плоская в сложенном состоянии лицевая респираторная маска, которая включает основу маски и крепление. Основа маски включает фильтрующую структуру, которая содержит два покровных полотна и фильтрующий слой, содержащий электрически заряженные микроволокна. Фильтрующая структура заложена сама на себя в виде складки в носовой области основы маски так, чтобы она имела ширину по меньшей мере 1 см или более и была протяженной по верхней части периметра основы маски, в целом по прямой линии, когда респиратор находится в сложенном состоянии. Фильтрующая структура имеет прогиб, больший, чем 0,5 мм, и восстанавливаемость по меньшей мере 40%, в сложенном состоянии. Преимуществом основы маски такой конструкции является то, что в ней не требуется использовать носовой элемент из вспененного материала для достижения плотной посадки респиратора поверх носа пользователя. 14 з.п. ф-лы, 6 ил., 3 табл., 2 пр.
