Патенты автора Батлер Джеймс Ехрич (RU)
ПЛАЗМЕННЫЙ СВЧ РЕАКТОР ДЛЯ ГАЗОФАЗНОГО ОСАЖДЕНИЯ АЛМАЗНЫХ ПЛЕНОК В ПОТОКЕ ГАЗА (ВАРИАНТЫ) // 2595156
Изобретение относится к плазменным СВЧ реакторам для газофазного осаждения алмазных пленок в потоке газа (варианты). Выполнение реактора на основе двух связанных резонаторов - цилиндрического резонатора и прикрепленного к его торцевой стенке круглого коаксиального резонатора, вдоль оси которых (соосно резонаторам) располагается реакционная камера в виде диэлектрической трубы, позволяет генерировать и поддерживать аксиально-симметричную плазму в реакционной камере только в одной единственной области резонатора около подложки. Выбор диаметра d этой реакционной камеры, удовлетворяющего условию: d2<V/p·C, где V - скорость внешнего потока газовой смеси в см/с, p - давление газовой смеси в реакционной камере в Торрах, С - константа, имеющая размерность [1/см·с·Торр] и равная 10-3, позволяет при поглощаемой в плазме мощности, большей 500 Вт, обеспечить ламинарный безвихревой поток газовой смеси над подложкой, что в свою очередь дает возможность быстрой замены осаждаемой газовой смеси, и, таким образом, позволяет наносить на подложку многослойные поли- или монокристаллические алмазные пленки, имеющие различающиеся электрофизические характеристики слоев. 2 н. и 8 з.п. ф-лы, 3 ил.
