Патенты автора Тагиров Глеб Евгеньевич (RU)
Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий в вакууме и позволяет изменять расположение покрываемой детали относительно источника распыляемого или испаряемого материала с сохранением осевого вращения детали - подложки. Устройство состоит из опорного фланца 1, в котором выполнены концентрические пазы 4 для разворачивания устройства относительно оси вакуумной камеры и установки стоек 6, посредством которых закрепляется подложкодержатель 7. Подложкодержатель 7 выполнен в виде пластины с проушинами 9 в виде полудисков. По внешнему радиусу полудисков расположены отверстия 10 для закрепления стоек 6. В пластине подложкодержателя 7 установлен подшипниковый узел 13. В подшипниковый узел 13 устанавливается вал 19, вращение которому передается через гибкую передачу (подвижный элемент) 20 от привода вращения 21. На вал 19 крепится втулка 22 с помощью быстросъемных фиксаторов 23. К втулке 22 крепится второй подложкодержатель 24 с покрываемой деталью 25. 4 ил.
ИСТОЧНИК МЕТАЛЛИЧЕСКОЙ ПЛАЗМЫ (ВАРИАНТЫ) // 2601725
Изобретение относится к источникам металлической плазмы (варианты) и может быть использовано для нанесения защитных, упрочняющих и декоративных покрытий методом катодного распыления на внутренние поверхности изделий, в частности на внутренние поверхности тел вращения, как открытых, так и закрытых с одной стороны. Источник металлической плазмы (ИМП) содержит установленные в вакуумной камере охлаждаемый катод из испаряемого металла, анод в виде вертикальных пластин и источник питания, соединенный токоподводами с анодом и катодом. ИМП имеет экраны и датчики ионного тока, соединенные с источником питания. Катод по одному из вариантов имеет перевернутую U-образную форму. Экраны выполнены в виде пластин, расположенных вдоль всей нерабочей поверхности катода. Две параллельные пластины выполнены повторяющими форму катода и соединены пластиной, расположенной во внутренней полости катода, каждое основание которого соединено с токоподводом. 2 н.п. ф-лы, 3 ил.
