Патенты автора РАММ, Юрген (CH)

Изобретение относится к металлургии, а именно к получению мишени из суперсплавов для катодного вакуумно-дугового нанесения покрытий. Мишень из суперсплава на основе порошка никеля или порошка кобальта для катодного вакуумно-дугового нанесения покрытий выполнена из легированного порошка суперсплава на основе никеля или кобальта, содержащего интерметаллические соединения, и имеет поликристаллическую структуру со случайной ориентацией зерен, при этом средний размер зерна в структуре мишени составляет менее 50 мкм, а пористость структуры составляет менее 10%. Способ получения мишени из суперсплава на основе порошка никеля или порошка кобальта для катодного вакуумно-дугового нанесения покрытий включает проведение искрового плазменного спекания, при котором легированный порошок суперсплава на основе никеля или кобальта, содержащий интерметаллические соединения, прессуют в вакууме и при температуре 1000-1350°С с одновременной подачей постоянного тока или импульсного постоянного тока. Обеспечивается возможность нанесения покрытий, состоящих из элементов с разными давлениями паров. 2 н. и 8 з.п. ф-лы, 3 табл., 9 ил.

Изобретение относится к системе многослойных покрытий для коррозионно нагруженных деталей. Система покрытия для подложки включает первый, второй и третий слои, при этом первый слой выполнен как усиливающий сцепление слой, второй слой представляет собой пластичный металлический слой со столбчатой структурой, а самый верхний, третий, слой представляет собой керамический оксидный слой с твердостью по меньшей мере 20 ГПа. Подложка представляет собой составную часть детали компрессора стационарной газовой турбины. Все слои покрытия наносят способом физического осаждения из газовой фазы. Изобретение направлено на улучшение стойкости деталей газовых турбин к эрозии. 3 н. и 7 з.п. ф-лы, 3 ил.

Изобретение может быть использовано при нанесении оксидного покрытия, в частности Al-Cr-O, на подложку методом физического осаждения из паровой фазы (PVD). Осуществляют нанесение реакционного PVD-покрытия на поверхность подложки в камере с использованием технологического газа, содержащего химически активный газ, в частности кислород, реагирующий с ионами металлов, полученными из по меньшей мере одной мишени, для осаждения по меньшей мере одного слоя, состоящего из Al, Cr, Si и О. По меньшей мере одна мишень имеет элементный состав, представленный формулой Al1-x-yCrxSiy, где 0,05≤y≤0,10 и 0,20≤x≤0,25. Добавка Si предотвращает образование оксидных островков на мишенях в процессе реакционного нанесения покрытия. 4 н. и 10 з.п. ф-лы, 5 ил.

Изобретение относится к покрытию изделий, инструментов и конструктивных элементов, которые должны иметь хорошие скользящие свойства или которые применяются в трибологических системах, в которых, как правило, должно применяться смазочное вещество для снижения трения. Смазывающее покрытие нанесено на изделие методом осаждения из паровой фазы (PVD), при этом оно содержит по меньшей мере один молибденсодержащий слой с монооксидом молибдена. Монооксид молибдена напыляют в содержащий монооксид молибдена слой методом искрового напыления. В одном из вариантов осуществления изобретения содержащий молибден слой с монооксидом молибдена получают с помощью искрового напыления с помощью по меньшей мере одной содержащей молибден мишени в реактивной кислородсодержащей и/или азотсодержащей атмосфере. Упомянутое покрытие используют при изготовлении конструктивного инструмента. Упомянутое покрытие применяют в качестве покрытия инструмента, используемого для изготовления конструктивных элементов из металлов или их сплавов, в частности для режущего или формующего инструмента. Обеспечивается получение усовершенствованного слоя, который наряду с хорошими трибологическими свойствами и/или электрическими свойствами имеет хорошие и стабильные смазывающие свойства и/или улучшенную пластичность. 5 н. и 14 з.п. ф-лы, 7 ил., 1 табл., 1 пр.

Изобретение относится к способам реакционного удаления с поверхности подложки покрытия из углеродных слоев. Осуществляют размещение освобождаемой от покрытия подложки на держателе подложки в вакуумной камере, подачу в вакуумную камеру по меньшей мере одного реакционного газа, обеспечивающего удаление углерода в газообразной форме, и зажигание плазменного разряда в вакуумной камере для стимулирования требуемой по меньшей мере одной химической реакции для удаления покрытия с покрытой подложки, и проведение реакционного удаления упомянутого покрытия по меньшей мере в одну стадию. Зажигают плазменный разряд, представляющий собой низковольтный дуговой разряд постоянного тока при разрядном токе между 20 А и 1000 А и разрядном напряжении максимально 120 В. Для удаления по меньшей мере части углеродного покрытия с подложки во время по меньшей мере одной стадии реакционного удаления покрытия в качестве реакционного газа используют азотсодержащий газ. Углеродное покрытие наряду с углеродом может содержать неметаллические элементы в виде водорода, бора, кремния и/или германия. Обеспечивается пригодное для промышленного применения удаление покрытия из углеродных слоев с предотвращением при этом распыления материала подложки. 2 н. и 8 з.п. ф-лы, 3 ил., 1 табл., 7 пр.

 


Наверх