Патенты автора ТАВАРА Хиротоси (JP)

Приспособление 10 для очистки, имеющее, по меньшей мере, одно боковое отверстие 41 и очистительную насадку 30, в котором направляющая поверхность 42 для загрязняющих частиц для направления загрязняющих частиц с поверхности, подлежащей очистке, в боковое отверстие 41 расположена вдоль нижнего конца бокового отверстия 41; очистительным валиком 50 является упругий валик, имеющий поверхность, покрытую тонкой пленкой 53, и расположен с возможностью вращения в положении для закрытия бокового отверстия 41 и для контакта с поверхностью, подлежащей очистке; и очистительный валик 50, вращающийся в соответствии с перемещением очистительной насадки 30, удаляет загрязняющие частицы через направляющую поверхность 42 для загрязняющих частиц в боковое отверстие 41 при выталкивании загрязняющих частиц с поверхности, подлежащей очистке. 11 з.п. ф-лы, 14 ил.

 


Наверх