Патенты автора ЛИЧ Джеффри Эдвард (NL)
Изобретение относится к системе магнитно-резонансной визуализации (MRI). Магнитно-резонансный аппарат содержит часть корпуса, содержащую полость, имеющую первый и второй концы и одно отверстие, расположенное на первом или втором конце, полость, определяющую продольную ось, проходящую между первым и вторым концами, угловую зону, расположенную между первым и вторым концами и вокруг полости и выполненную с возможностью прохождения луча излучения, один основной магнит для формирования основного магнитного поля, цилиндрический элемент шиммирования, образующий цилиндр равномерной толщины вокруг полости, проходящий между противоположными краями вдоль длины продольной оси полости и перекрывающий длину угловой зоны, множество дискретных элементов шиммирования, расположенных между цилиндрическим элементом шиммирования и первым или вторым концом, цилиндрический элемент шиммирования и дискретные элементы шиммирования выполнены с возможностью улучшения равномерности основного магнитного поля в полости. Технический результат – повышение качества изображения. 14 з.п. ф-лы, 8 ил.
Использование: для магнитно-резонансной визуализации (MRI). Сущность изобретения заключается в том, что система магнитно-резонансной визуализации (MRI) включает в себя магнит MRI, включающий в себя туннель и имеющий магнитное поле, и градиентную катушку, расположенную в пределах туннеля и имеющую изоцентр. Первое местоположение в пределах магнита MRI определяется относительно первой заранее заданной контрольной поверхности магнита MRI, причем первое местоположение представляет собой центр магнитного поля. Второе местоположение в пределах градиентной катушки определяется относительно второй заранее заданной контрольной поверхности градиентной катушки, причем второе местоположение представляет собой изоцентр. Когда градиентная катушка установлена в пределах туннеля, вторая заранее заданная контрольная поверхность примыкает к первой заранее заданной контрольной поверхности. Первая заранее заданная контрольная поверхность выставляется в отрегулированное положение, причем отрегулированное положение определяется как функция первого местоположения и второго местоположения и соответствует положению первой заранее заданной контрольной поверхности, в котором первое местоположение совпадает со вторым местоположением, когда градиентная катушка установлена в пределах туннеля. Технический результат: обеспечение возможности создания более однородного магнитного поля при MRI и обеспечение возможности уменьшения силы, передаваемой на подвесную систему катушки. 2 н. и 12 з.п. ф-лы, 12 ил.
