Патенты автора РИБЕЙРО Карлос (VN)

Изобретение относится к установке для облучения подложки электромагнитным излучением, как, например, инфракрасное излучение (ИК-излучение) для сушки подложек и/или ультрафиолетовое излучение (УФ-излучение) для сшивки УФ-отверждаемых лаков и может быть использовано в качестве компонента лакировальных установок. Установка (401) для облучения подложек в камере над подложкодержателями (11, 11') для оснащения подлежащими обработке подложками содержит по меньшей мере один источник (9, 9', 9") излучения. Камера содержит средства для поддержания газового потока в камере в виде газорасходного устройства. Газорасходное устройство включает в себя по меньшей мере один расположенный в области ниже подложкодержателя (11, 11’) впуск (421, 421') газа и по меньшей мере один расположенный в области ниже подложкодержателя (11, 11’) выпуск (423) газа. Газорасходное устройство выполнено так, что впуск (421, 421') газа и выпуск (423) газа содержат элементы, которые образуют сужающиеся в направлении потока и затем ниже по потоку снова расширяющиеся проточные каналы. Таким образом, при работе установки устанавливается по существу ламинарное течение по меньшей мере у газорасходного устройства и поэтому не происходит отложений из-за турбулентности. Газорасходное устройство выполнено так, что в камере создается газовый поток, который непосредственно после входа в камеру и прохода через проточные каналы обтекает подожки без протекания перед этим мимо возможно излучающих тепло источников излучения. Техническим результатом изобретения является обеспечение возможности получения температуры газового потока полностью определенной и настраивание ее на желательное стабильное значение, т.е. процесс обработки подложек (сушки и др.) является стабильным и с равномерными результатами. 3 з.п. ф-лы, 5 ил.

Изобретение относится к радиопрозрачному компоненту. Радиопрозрачный компонент (1), который включает в себя радиопрозрачное тело (3), предпочтительно пластиковое тело, причем по меньшей мере часть поверхности имеет слой (5), состоящий в основном из кремния, причем толщина состоящего в основном из кремния слоя (5) находится в пределах от 10 нм до 100 нм, причем между радиопрозрачным телом и состоящим в основном из кремния слоем (5) нанесен промежуточный слой (7), включающий в себя полимерный слой, который состоит из отверждаемого УФ-излучением лака, для сглаживания возможных поверхностных структур, при этом на состоящий в основном из кремния слой (5) в качестве защищающего от окружающей среды слоя нанесен полимерный слой (9), который состоит из отверждаемого ультрафиолетовым излучением лака. 4 н. и 5 з.п. ф-лы, 4 ил.

 


Наверх