Патенты автора КУРАПОВ, Денис (CH)
Изобретение относится к способу нанесения покрытия по меньшей мере из одного слоя TiCN на поверхность покрываемой подложки способом HiPIMS. Для осаждения по меньшей мере одного TiCN-слоя используют по меньшей мере одну Ti-содержащую мишень в качестве источника Ti для создания TiCN-слоя, которую распыляют в реакционной атмосфере HiPIMS-способом в камере для нанесения покрытий. Реакционная атмосфера включает по меньшей мере один инертный газ, предпочтительно аргон, и по меньшей мере газообразный азот в качестве реакционного газа. Для сокращения дефектов роста во время осаждения по меньшей мере одного TiCN-слоя реакционная атмосфера дополнительно включает в качестве второго реакционного газа углеродсодержащий газ, предпочтительно СН4, который используют в качестве источника углерода для создания TiCN-слоя. Во время осаждения TiCN-слоя к покрываемой подложке подводят напряжение смещения в биполярном режиме, или в качестве источника углерода для создания TiCN-слоя используют по меньшей мере одну графитовую мишень, которую распыляют в камере для нанесения покрытий с реакционной атмосферой только с газообразным азотом в качестве реакционного газа HiPIMS-способом. На Ti-содержащие мишени с помощью первого подводящего энергию устройства или первого блока питания, и на графитовые мишени с помощью второго подводящего энергию устройства или второго блока питания подают импульсы мощности. В результате получают покрытие с незначительными дефектами роста, не приводящими к потере твердости слоя или к нарастанию внутренних напряжений в слое. 8 з.п. ф-лы, 4 ил.
СЛОИ TixSi1-xN И ИХ ПОЛУЧЕНИЕ // 2674179
Изобретение относится к способу нанесения покрытия на заготовку (варианты). Выполняют покрытие, содержащее по меньшей мере один слой TixSi1-xN, где x≤0,85. Слой TixSi1-xN содержит нанокристаллы, которые имеют средний размер зерна не более 15 нм и имеют текстуру (200). Для получения покрытия применяют метод распыления. Наносят покрытие при плотности тока на поверхности распыляемой мишени выше 0,2 А/см2 и используют мишень из TixSi1-x, где x≤0,85. Между слоем TixSi1-xN и основой заготовки предусмотрен промежуточный слой с TiAlN или CrAlN. 5 н. и 9 з.п. ф-лы, 7 ил.
НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОЕ ИОННО-ДУГОВОЕ НАПЫЛЕНИЕ // 2634101
Изобретение относится к способу нанесения покрытия при электродуговом напылении или ионно-дуговом напылении на подложки в вакуумной камере. Испаряют твердый материал дугового испарителя, который работает в качестве катода. Во время дугового испарения ускоряют движение катодного пятна на поверхности твердого материала при помощи магнитного поля во избежание выброса большого количества макрочастиц или капель с поверхности твердого материала. В потоке от дугового испарителя с катода на анод образуются отрицательно заряженные частицы, которые перемещают от катода к аноду, что в основном не вызывает дополнительного возрастания абсолютного значения разности потенциалов между катодом и анодом, что делает возможным меньший шаг прироста температуры подложки при напылении. 9 з.п. ф-лы, 9 ил, 2 пр., 1 табл.
Настоящее изобретение относится к покрытию из (Al,Ti)N, подложке с данным покрытием и к способу нанесения упомянутого покрытия методом физического осаждения из газовой фазы (PVD) и может быть использовано для покрытия деталей машин и инструментов. Покрытие из (Al,Ti)N имеет две разные части покрытия А и В с разным нанометровым размером зерна, при этом часть В покрытия нанесена на часть А покрытия, а часть А покрытия имеет размер зерна, gzA, по меньшей мере в 1,25 раза больший, чем размер зерна, gzB, части В покрытия и более высокий модуль упругости, чем часть В покрытия. Подложка по меньшей мере частично имеет упомянутое покрытие из (Al,Ti)N. При осуществлении способа нанесения указанного покрытия часть А покрытия наносят с использованием плазмы, имеющей более низкую электронную температуру и/или более низкую ионизацию реакционноспособного газа по сравнению с плазмой, которую используют во время нанесения части В покрытия. Обеспечивается покрытие для высококачественных режущих инструментов, обеспечивающее улучшенные трибологические свойства поверхностей, подвергаемых трибологическому контакту, такие как твердость, износостойкость, стойкость к окислению, улучшенные режущие характеристики и более высокая производительность по сравнению с известным из уровня техники режущим инструментом. 4 н. и 17з.п. ф-лы, 3 ил.
