Патенты автора КОНСТАНСИА Кристоф (FR)
ПОДЛОЖКА ДЛЯ ЭЛЕКТРОННОЙ ЛИТОГРАФИИ ВЫСОКОГО РАЗРЕШЕНИЯ И СООТВЕТСТВУЮЩИЙ СПОСОБ ЛИТОГРАФИИ // 2632581
Группа изобретений относится к литографии при помощи электронного пучка. Структура основания для слоя материала, предназначенного для селективной обработки по рисунку высокого разрешения, и приема электронно-чувствительного маскирующего слоя для определения рисунка содержит наслоение подложки и промежуточный слой из пористого материала с плотностью, по меньшей мере, в два раза меньшей, чем плотность такого же непористого материала, причем этот материал имеет атомную массу менее 32. Способ электронной литографии, включает в себя формирование структуры основания, для слоя материала, предназначенного для селективной обработки, по рисунку высокого разрешения, а затем операцию обработки путем имплантации и/или травления слоя материала, предназначенного для селективной обработки. Технический результат заключается в уменьшении влияния обратно рассеиваемых электронов на рисунки высокого разрешения, получаемые способом литографии. 2 н. и 9 з.п. ф-лы, 8 ил.
