Патенты автора ЛЕХТХАЛЕР, Маркус (AT)
НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОЕ ИОННО-ДУГОВОЕ НАПЫЛЕНИЕ // 2634101
Изобретение относится к способу нанесения покрытия при электродуговом напылении или ионно-дуговом напылении на подложки в вакуумной камере. Испаряют твердый материал дугового испарителя, который работает в качестве катода. Во время дугового испарения ускоряют движение катодного пятна на поверхности твердого материала при помощи магнитного поля во избежание выброса большого количества макрочастиц или капель с поверхности твердого материала. В потоке от дугового испарителя с катода на анод образуются отрицательно заряженные частицы, которые перемещают от катода к аноду, что в основном не вызывает дополнительного возрастания абсолютного значения разности потенциалов между катодом и анодом, что делает возможным меньший шаг прироста температуры подложки при напылении. 9 з.п. ф-лы, 9 ил, 2 пр., 1 табл.
СЛОИ HIPIMS // 2633672
Изобретение относится к способу осаждения систем слоев PVD из газовой фазы с помощью напыления по меньшей мере на одну подложку. К подложке прикладывают напряжение смещения и осаждают по меньшей мере один первый слой HIPIMS и один второй слой HIPIMS с помощью метода HIPIMS. Используют по меньшей мере два частичных катода, выполненных с возможностью использования при плотностях мощности, составляющих 250 Вт/см2 и выше, и длинах импульсов по меньшей мере 5 мс и более. Для осаждения одного из по меньшей мере двух слоев HIPIMS используют плотность мощности, составляющую по меньшей мере 250 Вт/см2, и длину импульсов по меньшей мере 5 мс. Для осаждения другого слоя HIPIMS используют плотность мощности, составляющую по меньшей мере 250 Вт/см2, и длину импульсов с более короткой длительностью. 7 з.п. ф-лы, 3 ил.
