Патенты автора Мороз Андрей Викторович (RU)
Изобретение относится к неразрушающим методам измерения, а именно к области экспресс-измерений загрязнённости поверхности подложек микроэлектроники. Технический результат – оперативный производственный контроль чистоты поверхности подложек микроэлектроники за счет анализа формы капли жидкости, нанесенной на поверхность подложки. Технический результат достигается тем, что в способе измерения загрязненности поверхности подложек микроэлектроники, включающем нанесение капли на поверхность подложки, на основе анализа осесимметричной формы капли находят по ее профилю величину угла смачиваемости, согласно изобретению, определяют величину шероховатости контролируемой подложки по следующей зависимости, устанавливающей связь между параметрами капли и величиной загрязнения подложки: , где h - высота капли на поверхности, мм; α – угол смачиваемости, град; l – диаметр капли, мм; – коэффициент является отношением шероховатости загрязненной подложки (RaЗП) к шероховатости атомно-гладкой подложки (RaАГП), затем из найденной величины шероховатости подложки RaАГП вычитают величину шероховатости атомно-гладкой подложки RaЗП, принятой за эталонную, получают величину загрязненности поверхности подложки. 1 табл.
Изобретение относится к радиотехнике и может быть использовано при изготовлении тонкопленочных резисторов. Способ формирования резистивной пленки - реактивное магнетронное распыление. В качестве основы резистивной пленки предлагается использовать оксид элементов нержавеющей стали. Техническим результатом изобретения является: использование оксида элементов нержавеющей стали в качестве материала для резистивной пленки, обеспечивающей большую по сравнению с аналогами воспроизводимость; а также прогнозирование удельного поверхностного сопротивления при помощи математической модели процесса формирования резистивной пленки методом реактивного магнетронного распыления. 2 ил., 1 табл.
Способ контроля скорости формирования тонких пленок на различном расстоянии от источника материала // 2633687
Изобретение относится к технологии тонких пленок и может быть использовано при отработке технологии получения пленок, когда необходимо определить скорости напыления пленок в зависимости от расстояния источника материала-подложка.Техническим результатом изобретения является ускорение процесса контроля толщины скорости формирования пленки за счет упразднения дополнительных операций: вакуумизации камеры, перемещения подложки на новое расстояние мишень-подложка, формирование пленки, разгерметизация камеры. 2 ил.
