Патенты автора Шептунов Александр Александрович (RU)

Изобретение относится к химической промышленности, в частности к способу получения регента, используемого для очистки загрязненных сред, например очистки осадков сточных вод различных химических и пищевых предприятий, в том числе сред, содержащих радиоактивные загрязнения. Техническим результатом изобретения является повышение степени очистки загрязненных средств. Реагент для очистки загрязненных сред содержит натриевые соли аминокислот – смесь натриевых солей 20 стандартных аминокислот, ПАВ – смесь натриевых солей жирных кислот, имеющих формулу CnH2n+1COONa, где n=4-18, продукты гидролиза полисахаридов и медно-аммиачно-аминокислотные комплексы – смесь медно-аммиачно-аминокислотных комплексов на основе 20 стандартных аминокислот, при следующем соотношении компонентов, мас. %: натриевые соли аминокислот – 0,1-1; натриевые соли жирных кислот – 5-10; медно-аммиачно-аминокислотные комплексы – 5-30; продукты гидролиза полисахаридов – 1-5; вода – остальное. 2 н.п. ф-лы, 3 табл., 6 пр.

Изобретение относится к области очистки отложений различной природы, а именно к средствам для очистки металлических, стеклянных, керамических поверхностей промышленного оборудования и может быть использовано для удаления таких отложений, как оксиды металлов, карбонатные и солевые отложения, асфальтосмолопарафиновые и отложения нефтяной природы, отложения органической и биологической природы. Предложен раствор для очистки поверхности от отложений различной природы, содержащий перекись водорода, комплексон, водорастворимый каликсарен и воду при следующем соотношении, мас. %: перекись водорода 2-90, комплексон 3-30, водорастворимый каликсарен 0,01-10, вода - остальное, причем комплексон он содержит в виде многоосновных органических кислот, их натриевых солей или производных фосфористых кислот. Также предложены концентрированный компонент для приготовления упомянутого раствора, способ приготовления раствора и способы очистки поверхности от отложений различной природы. Технический результат: повышение степени очистки от отложений различной природы с одновременным снижением агрессивности раствора к конструкционным материалам. 5 н. и 14 з.п. ф-лы, 2 табл.

 


Наверх