Патенты автора ГОРОХОВСКИЙ, Владимир (US)

Изобретение относится к системе для плазменного напыления покрытий (варианты) и установке для плазменного напыления покрытий (варианты). Система содержит катод магнетрона с длинной кромкой и короткой кромкой. Магнитный полюс магнетрона обеспечивает создание электромагнитного барьера. По меньшей мере один удаленный дуговой разряд зажигается отдельно от катода магнетрона и в непосредственной близости от катода так, что он удерживается в пределах объема вблизи мишени магнетрона. Удаленный дуговой разряд распространяется параллельно длинной кромке мишени магнетрона и ограничивается поверхностью мишени с одной стороны и электромагнитным барьером со всех других сторон. Защитный кожух катода удаленного дугового разряда и защитный кожух анода проходят поверх дугового разряда и поперек короткой кромки катода магнетрона. Снаружи узла формирования плазмы расположена магнитная система, создающая магнитные силовые линии, которые проходят в плазму и удерживают плазму перед подложкой. Технический результат состоит в получении пленки покрытия высокого качества за счет обеспечения при нанесении покрытия генерирования частиц, обладающих высокой энергией. 4 н. и 25 з.п. ф-лы, 29 ил.

Изобретение относится к системе и способу нанесения покрытия. Система включает вакуумную камеру и узел для нанесения покрытия. Узел для нанесения покрытия включает в себя источник пара, держатель подложки, удаленный анод, электрически соединенный с мишенью-катодом, и узел катодной камеры. Узел катодной камеры включает в себя мишень-катод, первичный анод и экран, который изолирует мишень-катод от вакуумной камеры. В экране сформировано отверстие для передачи тока электронной эмиссии удаленной дуги от мишени-катода к удаленному аноду, который проходит вдоль длинного размера стороны мишени. Первичный источник питания включен между мишенью-катодом и первичным анодом, в то время как вторичный источник питания включен между мишенью-катодом и удаленным анодом. При этом линейный размер удаленного анода и короткий размер источника пара расположены параллельно размеру, в котором выполняют управление пятном дуги вдоль мишени-катода. 2 н. и 18 з.п. ф-лы, 51 ил., 1 табл.

Изобретение относится к способу и системе для нанесения покрытий на подложку. В системе узел нанесения покрытия расположен внутри вакуумной камеры. Узел нанесения покрытия включает источник паров, обеспечивающий наносимый на подложку материал, подложкодержатель, удерживающий подложку, на которую наносят покрытие, таким образом, чтобы они располагались перед источником паров, узел катодной камеры и удаленный анод. Узел катодной камеры включает катод, необязательный первичный анод и экран, изолирующий катод от вакуумной камеры. Указанный экран имеет отверстия для пропускания тока электронной эмиссии от катода в вакуумную камеру. Источник паров расположен между катодом и удаленным анодом, а удаленный анод соединен с катодом. Система включает первичный источник питания, присоединенный между катодом и первичным анодом, и вторичный источник питания, присоединенный между узлом катодной камеры и удаленным анодом. Способ включает генерирование первичной дуги в испускающем электроны катодном источнике между катодной мишенью и первичным анодом, генерирование удаленной дуги, удерживаемой в зоне нанесения покрытия между узлом катодной камеры и анодом, соединенным с катодной мишенью, и генерирование потока паров металла из источника паров металла по направлению к по меньшей мере одной подложке, предназначенной для нанесения покрытия. Получаемые покрытия имеют улучшенную адгезию, гладкость, сверхтонкую микроструктуру, высокую плотность, низкую концентрацию дефектов и пористость и, соответственно, высокие функциональные характеристики.2 н. и 34 з.п. ф-лы, 29 ил.

 


Наверх