Патенты автора Бардакова Ксения Николаевна (RU)

Изобретение относится к отверждаемым смолам и может быть использовано для изготовления термостойких трехмерных объектов методом DLP 3D-печати. Отверждаемые смолы состоят из термостойкого полимера – поли-2,2’-(п-оксидифенилен)-5,5’-дибензимидазола с молекулярной массой 100-180 кДа, ароматического акриламидного связующего – 3,3-ди(4’-акриламидофенил)фталида, активного растворителя – N,N-диметилакриламида и фотоинициатора – бис(2,4,6-триметилбензоил)-фенилфосфиноксида. Техническим результатом, обеспечиваемым приведенной совокупностью признаков, является формирование изделий заданной архитектуры методом DLP 3D-печати за короткий промежуток времени, характеризующихся термостойкостью 401-422°С и прочностью на разрыв 88,2-121,1 МПа. 3 пр.

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям для использования в технологиях быстрого получения термостойких изделий методом лазерной стереолитографии. Описывается фотополимерная композиция, включающая акриламидные компоненты, фотоинициатор - 2-бензил-2-диметиламино-1-(4-морфолинофенил)-бутанон-1 и поли-м-фениленизофталамид в качестве термостойкой матрицы. Предложенная композиция обладает достаточной фоточувствительностью для изготовления трехмерных термостойких изделий произвольной формы в условиях лазерной 3D стереолитографии с использованием экономичных и малогабаритных лазеров λ=405 нм с термостойкостью 370-390°С и прочностью на разрыв 86,8-90,3 МПа. 4 пр.

Изобретение относится к медицине, а именно к тканевой инженерии и регенеративной медицине, и предназначено для восстановления различных дефектов ткани. Для упрочнения гидрогелей осуществляют обработку гидрогелевого скаффолда в реакторе в среде сверхкритического диоксида углерода при температуре выше комнатной с последующим понижением температуры и постепенным снижением давления в реакторе до атмосферного. Обработку в реакторе ведут в течение 1-2 часов при температуре 40-50°С и давлении 5-15 МПа. Постепенное снижение давления диоксида углерода после обработки производят в течение 0,5-2 часов, при этом скорость потока диоксида углерода, обтекающего скаффолд, поддерживают в диапазоне 0,05-1 мм/с. Использование изобретения позволяет повысить прочность гидрогелевого скаффолда. 1 ил., 1 пр.

Изобретение относится к медицине, в частности к биомедицинскому материаловедению, и раскрывает метод получения гидрогелей с заданными механическими свойствами и архитектоникой. Способ включает формирование тонких слоев жидкой фотополимеризующейся композиции, содержащей 3 масс. % раствор аллилхитозана в 4% уксусной кислоте с добавлением 1 масс. % фотоинициатора Irgacure 2959 и 10 масс. % сшивающего агента полиэтиленгликольдиакрилата (ПЭГ-ДА) с молекулярной массой 500 Да, последующее структурирование композиции на лазерном стереолитографе с помощью сфокусированного лазерного излучения в УФ-области спектра, последующую отмывку непрореагировавшего материала с использованием воды и помещение структурированных гидрогелей в реактор высокого давления, куда в дальнейшем напускается углекислый газ под давлением 8 мПа и проводится нагрев реактора до температуры 40°C, при повышении давления до 15 МПа и выдерживании системы при таких параметрах 3 часа. Изобретение может быть использовано для изготовления матриц-носителей клеток для регенеративной медицины. 2 ил., 1 пр.

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям для использования в технологиях получения изделий методом лазерной стереолитографии. Композиция включает поли(N-аллил(2,2'-м-фенилен)-5,5'-дибензимидазолоксид), N,N'-диметилакриламид, акриламидный компонент, выбранный из 4,4'-дифенилфталиддиакриламида, 4,4'-оксидифенилдиакриламида, диакриламид[ди(4,4'-дифенилоксидизофталоиламидо)]-фенил-4'-фенилоксида, диакриламид[пента(4,4'-дифенилоксидизофталоиламидо)]-фенил-4'-фенилоксида, и фотоинициатор 2-бензил-2-диметиламино-1-(4-морфолинофенил)-бутанон-1. Предложенная композиция обладает достаточной фоточувствительностью для изготовления трехмерных изделий с термостойкостью 380-440°С произвольной формы в условиях лазерной 3D-стереолитографии с использованием экономичных и малогабаритных лазеров с λ=405 нм. 4 пр.

 


Наверх