Патенты автора КИРКПАТРИК, Шон, Р. (US)
Изобретение относится к способу обработки поверхности оптического элемента, а также к обработке поверхности оптического покрытия, сформированного на поверхности оптической подложки, формированию поверхностного барьерного покрытия на гигроскопичном кристаллическом материале, к оптическому элементу и гигроскопичной подложке. При осуществлении способа обработки поверхности оптического элемента осуществляют следующие этапы, на которых обеспечивают камеру с пониженным давлением, в которой формируют пучок газовых кластерных ионов, ускоряют газовые кластерные ионы с образованием пучка ускоренных газовых кластерных ионов вдоль траектории упомянутого пучка. Затем стимулируют фрагментацию и/или диссоциацию по меньшей мере части ускоренных газовых кластерных ионов вдоль траектории упомянутого пучка. После чего удаляют заряженные частицы из упомянутого пучка ускоренных газовых кластерных ионов с образованием ускоренного нейтрального пучка нейтральных газовых кластеров и/или нейтральных мономеров вдоль траектории упомянутого пучка и удерживают оптический элемент на траектории сформированного ускоренного нейтрального пучка. Затем обрабатывают по меньшей мере участок поверхности оптического элемента посредством облучения его сформированным ускоренным нейтральным пучком. Причем этапы стимулирования и удаления выполняют до упомянутого облучения поверхности оптического элемента. Обеспечивается создание устройств и способов формирования легированных и/или деформированных пленок и/или введения примесных атомных частиц в поверхности полупроводниковых или прочих материалов, причем обработанные поверхности имеют границы раздела с нижележащим материалом подложки, которые превосходят известные способы и устройства традиционной обработки пучком газовых кластерных ионов (GCIB). 5 н. и 30 з.п. ф-лы, 26 ил., 1 табл.
