Патенты автора ЛИССОТЧЕНКО, Виталий (DE)

Устройство для отклонения лазерного излучения (1) содержит первую линзовую матрицу (2) с множеством расположенных рядом друг с другом линз (3), через которую по меньшей мере частично проходит лазерное излучение (1) и формируется множество частичных лучей, вторую линзовую матрицу (8) с множеством расположенных рядом друг с другом линз (9), которая расположена таким образом, что лазерное излучение, прошедшее через первую линзовую матрицу (2), по меньшей мере частично проходит через вторую линзовую матрицу (8), подвижное, вращаемое или поворачиваемое первое зеркало (5), которое расположено между указанными двумя линзовыми матрицами (2, 8) и отклоняет прошедшее через первую линзовую матрицу (2) лазерное излучение (1) в направлении второй линзовой матрицы (8). Множество частичных лучей, формируемых линзами (3) линзовой матрицы (2), отражается от первого зеркала (5), объектив (13), который фокусирует прошедшее через вторую линзовую матрицу (8) лазерное излучение (10) в рабочей плоскости (14). Технический результат - возможность осуществлять быстрые движения и/или быстрые скачки зон фокусирования в рабочей плоскости. 3 н. и 11 з.п. ф-лы, 4 ил.

Изобретение относится к устройству для формирования лазерного излучения (14) с линейным распределением (11) интенсивности. Устройство содержит несколько источников лазерного света для формирования лазерного излучения (3) и оптические средства для преобразования идущих от источников лазерного света лазерных излучений (3) в лазерное излучение (14), которое имеет в рабочей плоскости (9) линейное распределение (11) интенсивности. Источники лазерного света выполнены в виде лазеров на основной моде. В устройстве каждое из идущих от источников лазерного света лазерных излучений (3) не перекрывается само с собой. Изобретение позволяет обеспечить однородное линейное распределение интенсивности в рабочей плоскости. 10 з.п. ф-лы, 8 ил., 1 пр.

 


Наверх