Патенты автора Глушков Денис Александрович (NL)
Изобретение относится к широкополосным высокояркостным источникам света на основе непрерывного оптического разряда. Технический результат – упрощение конструкции источника света, повышение его надежности и удобства эксплуатации, создание на этой основе мощных безэлектродных высокояркостных широкополосных источников света с максимально высокой пространственной и энергетической стабильностью. Источник света содержит заполненную газом камеру (1) с областью излучающей плазмы (2), поддерживаемой сфокусированным пучком (3) непрерывного лазера (4). Средством зажигания плазмы является твердотельная лазерная система (7), генерирующая два импульсных лазерных пучка (8), (9): в режиме свободной генерации и в режиме модуляции добротности. При этом твердотельная лазерная система (7) содержит только один активный элемент (10), а ее оптический резонатор (12), (13) снабжен модулятором добротности (14), перекрывающим часть (15b) апертуры внутрирезонаторного потока лазерного излучения (15). Способ зажигания плазмы характеризуется тем, что одним импульсным лазерным пучком (9) твердотельной лазерной системы (7) осуществляют оптический пробой, после которого другим импульсным лазерным пучком (8) зажигают плазму, объем и плотность которой достаточны для стационарного поддержания плазмы сфокусированным пучком (3) непрерывного лазера. 2 н. и 12 з.п. ф-лы, 2 ил.
Изобретение относится к Li-содержащему материалу мишени, предназначенному для получения излучающей плазмы в высокояркостных источниках света и для генерации излучения в области экстремального ультрафиолета (ЭУФ) на длине волны 13,5 нм. В качестве материала мишени используется эвтектический сплав Li с дополнительным элементом, позволяющим многократно увеличить плотность материала мишени по сравнению с плотностью Li при атомной доле Li от 90% до 60%. Дополнительный элемент выбран из группы, включающей в себя Au, Ag, Bi, Ва, Sr. Указанный материал мишени предпочтительно используют в ЭУФ источнике на основе лазерной плазмы с быстровращающейся мишенью (не менее 100 м/с), в котором капельная фракция загрязнений не направлена в пространственные области прохождения пучков лазерного и ЭУФ излучения. Техническим результатом является расширение круга применений компактных чистых источников излучения с высокой спектральной яркостью на 13,5 нм благодаря резкому снижению скорости капельной фракции загрязняющих частиц и возможности управлять направлением ее вылета из Li-содержащей плазмы за счет высокой скорости мишени. 4 н. и 12 з.п. ф-лы, 7 ил.
Изобретение обеспечивает создание коммерчески доступного источника ЭУФ излучения для ЭУФ метрологии и актинической инспекции литографических ЭУФ масок. Реализуется за счет использования лазерной мишени в виде непрерывной струи жидкого лития (1), циркулирующего через зону взаимодействия по замкнутому контуру (9) посредством высокотемпературного насоса (11). Коллекторное зеркало (7) размещено снаружи вакуумной камеры (3) в среде, заполненной инертным газом, и выход пучка ЭУФ излучения (8) из зоны взаимодействия (2) на коллекторное зеркало (7) осуществляется через ЭУФ фильтр (12), служащий выходным ЭУФ окном вакуумной камеры. Входное окно (5) для ввода лазерного пучка (6) снабжено экранирующим оптическим элементом (25). Испарительного очистка ЭУФ фильтра (12) и экранирующего оптического элемента (25) обеспечиваются их нагревом до 350-450°С. Вокруг струи жидкого лития установлен защитный кожух (20) с температурой выше 180°С. Технический результат - повышение надежности и срока службы источника ЭУФ излучения, упрощение его конструкции и снижение стоимости эксплуатации при обеспечении высокой яркости, высокой пространственной и энергетической стабильности. 2 н. и 15 з.п. ф-лы, 2 ил.
