Патенты автора Кривокорытов Михаил Сергеевич (RU)
Изобретение относится к Li-содержащему материалу мишени, предназначенному для получения излучающей плазмы в высокояркостных источниках света и для генерации излучения в области экстремального ультрафиолета (ЭУФ) на длине волны 13,5 нм. В качестве материала мишени используется эвтектический сплав Li с дополнительным элементом, позволяющим многократно увеличить плотность материала мишени по сравнению с плотностью Li при атомной доле Li от 90% до 60%. Дополнительный элемент выбран из группы, включающей в себя Au, Ag, Bi, Ва, Sr. Указанный материал мишени предпочтительно используют в ЭУФ источнике на основе лазерной плазмы с быстровращающейся мишенью (не менее 100 м/с), в котором капельная фракция загрязнений не направлена в пространственные области прохождения пучков лазерного и ЭУФ излучения. Техническим результатом является расширение круга применений компактных чистых источников излучения с высокой спектральной яркостью на 13,5 нм благодаря резкому снижению скорости капельной фракции загрязняющих частиц и возможности управлять направлением ее вылета из Li-содержащей плазмы за счет высокой скорости мишени. 4 н. и 12 з.п. ф-лы, 7 ил.
Изобретение относится к высокояркостным источникам излучения в области длин волн приблизительно от 0.4 до 120 нм. Технический результат - увеличение средней мощности и спектрального диапазона собираемого излучения в компактных источниках мягкого рентгеновского, ЭУФ и ВУФ излучения высокой яркости Способ включает формирование под действием центробежной силы мишени в виде слоя расплавленного металла. Мишень вращают с линейной скоростью не менее 100 м/с. При этом большая часть капельной фракции загрязнений и вектор линейной скорости мишени в зоне взаимодействия направлены по одну сторону от плоскости, проходящей через зону взаимодействия и ось вращения мишенного узла. Одновременно импульсное облучение мишени и сбор излучения из плазмы осуществляют так, что пучок коротковолнового излучения плазмы и сфокусированный пучок лазерного излучения находятся по другую сторону указанной плоскости. Источник коротковолнового излучения содержит два соосных блока эллипсоидных зеркал, расположенных последовательно по пути пучка коротковолнового излучения плазмы. На пути пучка коротковолнового излучения к оптическому коллектору размещены средства подавления загрязнений. 2 н. и 15 з.п. ф-лы, 3 ил.
Изобретение относится к импульсным высокояркостным источникам излучения в диапазоне длин волн 0.4-120 нм. Источник излучения содержит вакуумную камеру (1) с областью импульсной излучающей плазмы и средства подавления загрязнений (5), включающие в себя два или более кожухов (6), предназначенных для формирования свободных от загрязнений гомоцентрических пучков (7) коротковолнового излучения, направленных из области импульсной излучающей плазмы (2) к оптическому коллектору (3), Поверхность каждого кожуха (6) содержит две первые грани (8), ориентированные в радиальных направлениях к области импульсной излучающей плазмы и параллельные выделенному направлению, например вертикали. Снаружи каждого кожуха (6) размещены постоянные магниты (9), создающие внутри кожухов (6) магнитное поле. Оптический коллектор (3) предпочтительно состоит из нескольких зеркал (4), установленных на пути каждого из пучков коротковолнового излучения. В варианте изобретения плазма представляет собой лазерную плазму материала жидкометаллической мишени (16), поставляемой в область фокусировки лазерного пучка с помощью вращающегося мишенного узла (19). Технический результат - создание мощных высокояркостных источников коротковолнового излучения с высокоэффективным подавлением загрязнений в пучке коротковолнового излучения, распространяющемся в большом, предпочтительно более 0,25 ср, телесном угле. 2 н. и 15 з.п. ф-лы, 3 ил.
Изобретение относится к высокояркостному источнику коротковолнового излучения на основе лазерной плазмы. Источник содержит вакуумную камеру (1) с вращающимся мишенным узлом (2), поставляющим в зону взаимодействия (3) со сфокусированным лазерным пучком (7) мишень (4) в виде слоя расплавленного металла. В качестве средства подавления загрязнений вблизи зоны взаимодействия (3) неподвижно установлен экран (12) с двумя отверстиями (13), (14) для ввода лазерного пучка в зону взаимодействия (3) и вывода из нее полезного пучка коротковолнового излучения (8). Экран (12) может быть отделен от вращающегося мишенного узла (2) щелевыми зазорами (15), (16). Комплекс средств подавления загрязнений предпочтительно включает вращение мишени с высокой линейной скоростью, более 80 м/с; ориентацию, по меньшей мере, одного из пучков (7), (8) лазерного и коротковолнового излучения под углом менее 45° к поверхности мишени; сопло (27), подающее высокоскоростной поток газа в зону взаимодействия (3). Техническийм результатом является создание чистых высокояркостных источников коротковолнового излучения в диапазоне длин волн от 0.4 до 200 нм с высоким сроком службы. 18 з.п. ф-лы, 4 ил.
ИСТОЧНИК РЕНТГЕНОВСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ С ЖИДКОМЕТАЛЛИЧЕСКОЙ МИШЕНЬЮ И СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ИЗЛУЧЕНИЯ // 2709183
Изобретение относится к области рентгенотехники, в частности к высокояркостным источникам рентгеновского излучения с жидкометаллической мишенью. Жидкометаллическая мишень (6) представляет собой слой расплавленного металла, образованный центробежной силой на обращенной к оси вращения (7) поверхности (8) кольцевого желоба (9) вращающегося анодного узла (10). Способ генерации рентгеновского излучения включает электронную бомбардировку жидкометаллической мишени (6), материал которой относится к группе Sn, Li, In, Ga, Pb, Bi, Zn и их сплавам, и вывод пучка рентгеновского излучения через выходное окно (2) вакуумной камеры (1). Предпочтительно вращающийся анодный узел охлаждают протоком жидкого теплоносителя (20), размер фокусного пятна (4) на мишени составляет менее 50 мкм, а линейная скорость мишени (6) - более 80 м/с. В вариантах изобретения защищают выходное окно (2) от загрязнений с помощью установленной перед ним сменной мембраны из углеродных нанотрубок. Технический результат - упрощение системы формирования жидкометаллической мишени, оптимизация материала мишени, повышение ее скорости, устранение загрязнений выходного окна, увеличение яркости, срока службы и удобства эксплуатации источника рентгеновского излучения. 2 н. и 11 з.п. ф- лы, 2 ил.
Изобретение направлено на усовершенствование высокояркостных источников излучения в диапазоне длин волн от 0,01 до 20 нм за счет глубокого подавления загрязняющих частиц на пути прохождения пучка коротковолнового излучения. Цель достигается за счет использования пучка энергии (11), сфокусированного на мишени (4), представляющей собой слой расплавленного металла, образованного центробежной силой на обращенной к оси вращения поверхности кольцевого желоба вращающегося мишенного узла (2), и применения средств подавления загрязнений на пути прохождения пучка коротковолнового излучения (13). Высокоэффективное подавление загрязнений достигается за счет вращения мишени с высокой, более 20 м/с, линейной скоростью, вывода пучка коротковолнового излучения (13) в направлении, отличном от направления преимущественного выхода микрокапельной фракции загрязнений, установки на пути прохождения пучка коротковолнового излучения сменной мембраны (20) из углеродных нанотрубок. Коротковолновое излучение генерируется либо лазерной плазмой материала мишени, либо в виде рентгеновского излучения при бомбардировке мишени электронным пучком. Технический результат - создание наиболее высокояркостных источников экстремального ультрафиолетового (ЭУФ) и рентгеновского излучения с высоким сроком службы и удобством эксплуатации. 11 з.п. ф-лы, 9 ил.
Кондукционный МГД-насос и насосная система // 2701154
Изобретение относится к электротехнике, к компактным магнитогидродинамическим (МГД) насосам. Технический результат состоит в уменьшении габаритов, упрощении конструкции и эксплуатации, повышении надежности и ресурса, обеспечении чистых условий прокачки широкого ряда жидких металлов и сплавов при высоком (2 бар) напоре с производительностью ~ 100 см3/c. МГД-насос содержит рабочий канал, образованный уплощенной секцией (1) тонкостенной трубки (2) из нержавеющей стали, к которому через две токоведущие шины (4), (5) подключен источник постоянного тока (3). Источник магнитного поля выполнен в виде расположенных друг против друга двух постоянных магнитов (6), (7), соединенных между собой магнитопроводом (8). Рабочий канал размещен между двумя постоянными магнитами с щелевыми зазорами, в каждом из которых размещены: электроизолирующая прокладка (9), полосковая нагревающая шина (10), подключенная к дополнительному источнику тока (11), и теплоизолирующая прокладка (12). Каждая из токоведущих шин предпочтительно снабжена тепловым барьером (16) и теплообменником (17). В насосной системе из последовательно соединенных МГД-насосов рабочие каналы выполнены из идентичных тонкостенных трубок, и рабочий канал МГД-насоса, стоящего первым по потоку прокачиваемой среды, имеет большее поперечное сечение. 2 н. и 7 з.п. ф-лы, 3 ил.
Изобретение относится к источнику излучения на основе лазерной плазмы. Область применений включает ЭУФ метрологию, инспекцию микро- и наноструктур, актиническую инспекцию литографических ЭУФ масок. Мишенью (4) является образуемый при воздействии центробежной силы слой расплавленного металла на внутренней поверхности (16) дальней стенки (13) кольцевого желоба (11), выполненного во вращающемся мишенном узле (3). В вариантах изобретения возможна синхронизация моментов лазерных импульсов с углами поворота вращающегося мишенного узла, при которых обеспечивается прямая видимость между зоной взаимодействия (5) и входным и выходным окнами (6), (8) через n пар отверстий (17), (18) в ближней стенке (14) кольцевого желоба, где n находится в диапазоне от 10 до 100. Техническим результатом является подавление потока загрязняющих частиц в высокояркостном источнике коротковолнового излучения, что обеспечивает повышение его долговечности за счет чрезвычайно низкого уровня загрязнений. 2 н. и 18 з.п. ф-лы, 5 ил.
Изобретение обеспечивает создание коммерчески доступного источника ЭУФ излучения для ЭУФ метрологии и актинической инспекции литографических ЭУФ масок. Реализуется за счет использования лазерной мишени в виде непрерывной струи жидкого лития (1), циркулирующего через зону взаимодействия по замкнутому контуру (9) посредством высокотемпературного насоса (11). Коллекторное зеркало (7) размещено снаружи вакуумной камеры (3) в среде, заполненной инертным газом, и выход пучка ЭУФ излучения (8) из зоны взаимодействия (2) на коллекторное зеркало (7) осуществляется через ЭУФ фильтр (12), служащий выходным ЭУФ окном вакуумной камеры. Входное окно (5) для ввода лазерного пучка (6) снабжено экранирующим оптическим элементом (25). Испарительного очистка ЭУФ фильтра (12) и экранирующего оптического элемента (25) обеспечиваются их нагревом до 350-450°С. Вокруг струи жидкого лития установлен защитный кожух (20) с температурой выше 180°С. Технический результат - повышение надежности и срока службы источника ЭУФ излучения, упрощение его конструкции и снижение стоимости эксплуатации при обеспечении высокой яркости, высокой пространственной и энергетической стабильности. 2 н. и 15 з.п. ф-лы, 2 ил.
