Патенты автора Сероглазов Павел Викторович (NL)
Изобретение обеспечивает создание коммерчески доступного источника ЭУФ излучения для ЭУФ метрологии и актинической инспекции литографических ЭУФ масок. Реализуется за счет использования лазерной мишени в виде непрерывной струи жидкого лития (1), циркулирующего через зону взаимодействия по замкнутому контуру (9) посредством высокотемпературного насоса (11). Коллекторное зеркало (7) размещено снаружи вакуумной камеры (3) в среде, заполненной инертным газом, и выход пучка ЭУФ излучения (8) из зоны взаимодействия (2) на коллекторное зеркало (7) осуществляется через ЭУФ фильтр (12), служащий выходным ЭУФ окном вакуумной камеры. Входное окно (5) для ввода лазерного пучка (6) снабжено экранирующим оптическим элементом (25). Испарительного очистка ЭУФ фильтра (12) и экранирующего оптического элемента (25) обеспечиваются их нагревом до 350-450°С. Вокруг струи жидкого лития установлен защитный кожух (20) с температурой выше 180°С. Технический результат - повышение надежности и срока службы источника ЭУФ излучения, упрощение его конструкции и снижение стоимости эксплуатации при обеспечении высокой яркости, высокой пространственной и энергетической стабильности. 2 н. и 15 з.п. ф-лы, 2 ил.
