Патенты автора ДОНИТЦКИ Кристоф (DE)
Группа изобретений относится к медицине. Предлагается способ настройки энергии импульсного фокусированного лазерного излучения. В способе устанавливается соотношение между пороговой энергией импульса, необходимой для причинения необратимого повреждения в материале, и длительностью импульса. Соотношение позволяет получить пороговую энергию импульса для каждой из множества длительностей импульса, в том числе одной или нескольких длительностей импульса в диапазоне от 200 фс и менее. Соотношение определяет уменьшение пороговой энергии импульса при уменьшении длительности импульса в диапазоне от 200 фс и менее. Для заданной длительности импульса в диапазоне от 200 фс и менее соотнесенная пороговая энергия импульса определяется на основании установленного соотношения. Энергия импульса лазерного излучения настраивается на основании определенной соотнесенной пороговой энергии импульса. В некоторых вариантах осуществления настоящего изобретения соотношение представляет собой уменьшение пороговой энергии импульса, по существу, в функции кубического корня из длительности импульса. Применение данной группы изобретений позволит облегчить установку параметров лазерного излучения. 3 н. и 10 з.п. ф-лы, 5 ил.
Группа изобретений относится к медицинской технике. В способе и устройстве лазерной обработки материала дифракционно-ограниченный луч импульсного лазерного излучения преломляется дифракционным устройством для создания дифрагированного луча импульсного лазерного излучения. Дифрагированный луч затем фокусируют на материале и управляют им во времени и пространстве для облучения материала в целевом положении излучением из множества импульсов излучения дифрагированного луча, так что каждый импульс излучения из множества импульсов излучения падает в целевом положении частью поперечного сечения дифрагированного луча, причем часть поперечного сечения содержит локальный максимум интенсивности дифрагированного луча. Каждая часть поперечного сечения луча по меньшей мере подмножества импульсов множества содержит разный локальный максимум интенсивности. Таким образом, может быть осуществлено многоимпульсное применение для создания фотодеструкции в целевом положении материала. 2 н. и 37 з.п. ф-лы, 2 ил.
