Патенты автора ВАНГ Джастин Х. (US)

Изобретение относится к способам и активным материалам для очистки газовых потоков, содержащих галогенид в качестве загрязнителя. Активный материал содержит один или более первых металлов, причем данные первые металлы выбраны из группы, состоящей из железа, кобальта, никеля, меди, рутения, родия, палладия, серебра, осмия, иридия, платины и золота, и один или более вторых металлов, причем данные один или более вторых металлов выбраны из группы, состоящей из щелочных металлов, щелочно-земельных металлов, скандия, иттрия, титана, циркония, гафния, ванадия, ниобия, тантала, хрома, молибдена, вольфрама, марганца, технеция и рения, причем каждый из одного или более первых металлов присутствует в состоянии металла и каждый из одного или более вторых металлов присутствует в состоянии оксида металла и/или гидроксида металла. Изобретение обеспечивает эффективное удаление галогенида, присутствующего в газовых потоках даже в очень малых количествах. 2 н. и 12 з.п. ф-лы, 3 табл., 17 пр.

 


Наверх