Патенты автора КАСПАР Мартин (CH)
Данное изобретение относится к способу УФ-сшивания лаковых слоев. Кроме того, изобретение относится к устройству облучения для выполнения способа. Поверхность компонента по меньшей мере частично имеет покрытие, которое содержит PVD-покрытие, расположенное между первым лаковым слоем и вторым лаковым слоем, первый лаковый слой образует слой базового покрытия на поверхности, а второй лаковый слой образует слой верхнего покрытия с толщиной верхнего покрытия на PVD-покрытии, при этом по меньшей мере слой верхнего покрытия изготовлен с помощью УФ-отверждаемого лака, и, исходя из поверхности раздела PVD-покрытия, в области, меньшей, чем толщина верхнего покрытия, упомянутая область имеет меньшую степень вызванного УФ-излучением сшивания, чем в части слоя верхнего покрытия, прилегающей к этой области. Изобретение обеспечивает создание лака, который имеет хорошую стойкость к микроцарапинам, не являясь хрупким. 2 н. и 4 з.п. ф-лы, 1 ил.
