Патенты автора ФОН РИВЕЛЬ Лариса (DE)
Изобретение относится к устройству для термической обработки подложки, причем устройство имеет нагревательный узел и носитель, снабженный опорной поверхностью для поддержания подложки. Технический результат - создание устройства, носителя и элемента для поддержки подложки для носителя, которые делают возможной простую термическую обработку подложек с высокой производительностью. Достигается тем, что устройство для термической обработки подложки имеет нагревательный узел и носитель, снабженный опорной поверхностью для подложки. По меньшей мере часть носителя изготовлена из композиционного материала, содержащего аморфный матричный компонент и дополнительный компонент в виде полупроводникового материала. При этом токопроводящая дорожка, которая является частью нагревательного узла и которая изготовлена из электропроводного резистивного материала, который генерирует тепло, когда ток проходит через него, нанесена на поверхность композиционного материала. 3 н. и 7 з.п. ф-лы, 6 ил.
